聚和材料拟收购Blank Mask业务

聚和材料｜动态更新：计划收购Blank Mask业务，有望受益于先进制程扩产
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拟收购SKE的Blank Mask资产，推动国产化进程
Blank Mask（掩膜基板）与光刻胶类似，国产化率仍然很低。目前国产KrF PSM仅处于送样阶段，而ArF PSM、OMOG等高端产品国产化尚处早期。作为光掩模上游关键材料，提升国产化率势在必行。

SKE的Blank Mask产品主要对应DUV-ArF及KrF光刻工艺，以PSM相移掩模版为主，可填补国内相关空白。收购完成后，聚和材料计划分两期在国内建设共计4万片产能，加速国产化替代。

行业壁垒高，竞争格局集中，具备“赢家通吃”属性
Blank Mask行业受限于技术瓶颈与设备供应，后来者难以快速跟进。尤其是ArF-i、EUV等高端产品，需与晶圆厂紧密合作、共同研发。

公司产品已通过SK海力士、TMC、新锐光、迪思微、中微掩模等国内外客户的量