掩膜版在AI智能产业链中扮演着“从虚拟设计到物理芯片的核心转换桥梁”和“精度与良率的决定性角色”。它虽不直接出现在AI应用端，却是制造所有先进AI芯片（GPU、TPU、NPU等）不可或缺的高精度“底片”。随着半导体技术不断迭代，特别是在AI技术的加持下，将进一步带动集成电路、半导体器件制造以及各类先进封装需求的不断增加，半导体掩膜版市场需求也将随之增长。
一、掩膜版是连接工业设计和工艺制造的关键
掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版，是平板显示、半导体、触控、电路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。作为光刻复制图形的基准和蓝本，掩膜版是连接工业设计和工艺制造的关键，掩膜版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的良品率。人工智能产业的发展离不开先进AI芯片（GPU、TPU等）的研发和生产。这些芯片的制造过程高度依赖掩膜版，特别是在工艺上的不断突破，推动了芯片的集成度和微型化。
浙商证券指出，全球半导体市场在经历库存去化后迎来复苏，算力需求的加速（CPU/GPU/存储）、汽车电子长尾需求和物联网（IoT）应用的增长，推动了前后道光刻用膜的强度回升。同时，成熟至高端逻辑与模拟器件在130 - 40nm区间的需求仍保持较大规模，先进封装（如WLCSP/Fan - Out/RDL）等多层化与微间距化趋势进一步加剧，对高精度掩膜的需求持续上升。
二、相关公司：路维光电、冠石科技、清溢光电
路维光电在 G11高精度超大尺寸掩膜版领域，公司于2019年成功建设国内首条G11高世代掩膜版产线并投产，成为国内首家且唯一一家、世界第四家掌握G11掩膜版生产制造技术的本土企业。
冠石科技 表示，2025年3月19日宁波冠石实现了55纳米光掩膜版交付及40纳米光掩膜版生产线成功通线。这不仅是公司战略布局“一大一小”全面落实的历史性重要里程碑，更是公司迈入半导体行业高精尖技术领域的新起点。
清溢光电 在半导体芯片掩膜版行业已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产，以及150nm工艺节点半导体芯片掩膜版的小规模量产。