12月主线题材：光刻胶国产替代（地缘风险）

光刻胶是半导体制造过程中不可或缺的核心材料，主要用于光刻工艺中，将电路图形从掩膜版转移到硅片表面。其性能直接决定了芯片的分辨率、良率和制程水平。光刻胶根据曝光波长不同，分为g线、i线、KrF、ArF、EUV等多个等级，分别对应不同的制程节点。越先进的光刻胶，对分辨率、灵敏度、工艺窗口等性能要求越高，技术壁垒也越大。目前，全球高端光刻胶市场主要被日本JSR、信越化学、东京应化等日企垄断，尤其在ArF和EUV领域，国产化率仍不足10%。

近年来，随着中美科技摩擦加剧，光刻胶成为“卡脖子”关键环节。若日本对中国实施光刻胶断供，短期内将对中芯国际、长江存储等晶圆厂造成较大冲击，尤其是14nm及以下先进制程将面临停产风险。但从长期看，这也将倒逼国产替代加速落地。目前，A股市场已有十余家公司布局光刻胶赛道，部分企业已具备中高端产品量产能力，具备较强的替代潜力。

首先，彤程新材旗下北京科华是国内半导体光刻