空白掩模版（blank mask）专家交流 20250911-华源电子
专家背景：某知名掩模版厂厂长，在掩模版领域深耕近 20 年。
交流总结
1、空白掩模版技术壁垒超高，具有稀缺性和高价值量特点。
2、国际上能做到半导体级产品的企业仅 4 家左右，目前国内厂商仅能够基本达到面板级，但国内半导体级空白掩模版国产化率 0。
3、25 年国内空白掩模版市场 60 亿左右，未来几年随着 AI 的需求放大，晶圆厂
对于高端的空白掩模版需求会呈现指数级增长，市场蛋糕呈现量价齐升格局。
4、PSM 空白掩模版中 40nm 是重要节点，40nm 以上制程产品售价一般在小几万
rmb 单片水平，而 40nm 及以下产品售价将达到几万美金，而 7、14nm 空白掩模
版产品更是达到 10 万美金以上水平。
5、毛利率水平极高，由于国内半导体级供给一片空白，国内厂商无法与海外供应商进行议价。
6、SKE 产品已经获得海力士内部供应商资质，国内部分厂商也有通过经销售商
销售，后续在国内落地较为容易，导入时间不会很长。
华源电子核心观点：
看好聚和材料此次对于 SK-E 空白掩模版的收购，对于国内自主可控领域是与光刻机具有同等的重要性，同时，未来也将充分享受未来国内对于 AI 发展所需满足的高端掩模版的需求。标的稀缺，继续重点推荐！
目标市值看 300 亿，其中主业给明年 5 亿利润 20-25 倍估值对应 100-125 亿市值，空白掩模版业务假设在27、28 年实现 6 万片的供给，对应 20 亿收入，8 亿利润，给予 25 倍估值，对应200 亿，综上，公司整体市值目标看 300-325 亿，当前仍有翻倍空间！
专家交流：1. 掩模版和空白掩膜版简介
a. 掩模版 主要做图形转移的载体，把设计公司做好的图形，通过开掩模版转移到晶圆上去
b. 掩模版主要用于半导体和平板显示行业，平板显示占比 25%，半导体占比 60%，是最核心的耗材
c. 不能有缺陷，会造成成批的不良
2. 产业链
a. 基板材料，不考虑 EUV 有两种，一个是石英玻璃，一个是苏打玻
璃，石英玻璃是主流
b. 首先是石英玻璃制造
c. 其次，石英玻璃做出来之后需要做研磨、抛光、镀铬、涂胶
d. 最后，再进行刻蚀薄膜等，做成掩模版成品
3. 掩模版的分类
a. 目前光刻机分为 I 线、KrF、ArF，曝光机有几种光源，436nm G 线，365nm I 线，248nm K 线，193nm A 线；上面的光刻胶要对应相关的波长；
b. 最普通的结构
i. 基板上镀纯铬、再镀氧化铬、涂胶 ii.180nm 及以上技术节点
c.PSM
i. 多了一层防衍射层，镀 MoSi、镀纯铬、再镀氧化铬、涂胶 ii. 小于 130nm，一直到14nm 需要PSM iii. 目前国内没有国产空白
d. EUV
i. 和之前的掩模完全不一样，之前是透射光，EUV是反射光硅化钼材料的作用 i. 降低光的衍射，光并不是直来直去的，降低边缘产生误差，线边缘降低误差
硅化钼材料的作用 i. 降低光的衍射，光并不是直来直去的，降低边缘产生误差，线边缘降低误差
4.空白掩模版技术难点和关键指标
a.对石英玻璃非常严格
i.透过率:全波长透过，不论是248nm、193nm都可以透过
ii.热膨胀系数:热膨胀不敏感，光刻机对掩模版持续照射，会持续产生热量
b.研磨抛光:要求平整度非常苛刻，0.几个微米，几十个nm
c.表面的粗糙度
d.镀铬:均匀性要非常好，黏附性要好 缺陷控制
5.空白掩模版的市场壁垒 a.设备都差不多 b.工匠的积累更重要，人的作用更大
6. 掩模版价值量
a. 价格
i. 5nm 2000 万美元，一套版
ii. 14nm 600 多万美金，1 套
iii. 40nm 200 多万美金
预估其中空白掩模版的价值量在 40 万美金，高端PSM 一片大概 1-3 万美金
iv. 130nm 以上是百万人民币
b. 大于 180nm 用激光光刻机制造+湿法刻蚀
c. 到 PSM 阶段，需要用电子束光刻机，激光光点突破了物理极限，
湿法的蚀刻就不行了，设备投入就很高了
d. 建设激光光刻产线 几个亿，电子束条线需要几十亿
e. 从 90 到 14nm 的技术难点
i. 基板玻璃要求会显著增长
ii. 平整度要求会有显著提升，对良率也有要求
iii. 研磨 90nm 需要 2 小时，研磨 14nm 需要 24h
7. 空白掩模版价值量拆分
a. 180nm 以上，材料成本占整个成本比例 30%
b. PSM 级别，空白掩模成本成长到 60%-70%
c. 毛利率
i. 中低端大概 60%，中高端预计在 70%左右
8. 市场空间
a. 整个掩模市场 24 年 150-200 亿人民币，blank mask 有 50-60 亿
9.Inhouse 厂建设的逻辑
a. 大部分订单还是发给第三方掩模版做，主要是保证自主可控，及时补上需求
b. 外部掩模版公司主要是做比较 low 的
c. 内部核算是亏损的，主要是配合公司战略
（也就是说空白掩膜版的高端程度远高于其他上市公司里的做的掩模版）
10. 全球做的好的空白掩模版厂商
a. 目前供应商 日本豪雅、信越、韩国 SS、SKE
i. 豪雅是全产业链，从石英开始做
ii. 信越 主要做 BM
iii. S&S 是三星的 inhouse 厂，是做配套
iv. SKE
之前有个同学在 SKE，已经被海力士验证过，14nmPSM 已经做出来了11. 新建产能一般需要多久能实现量产
a. 一年半到 2 年
b. 有 user case 之后，其他厂商会加速验证12. 国内光罩厂对空白掩模版国产化的诉求
a. 降价
b. 交货周期降低：光刻胶使用期限，对温湿度比较苛刻，越早用越好，光刻胶放了几个月，就废掉了，如果从日本买，报关需要很久，会降低光刻胶质量
13. 国内 PSM 潜在光罩厂客户
a. 明后年路维、清溢、芯华芯、冠石科技四家都会都开始使用 PSM光罩
b. Inhouse 厂包括中芯国际、华虹半导体、CXMT、泉意光罩