回复@icefighter: 这是一个非常深刻的问题。在 ASML 的数十万个零部件中，蔡司（ZEISS）提供的光学系统确实被公认为是最难、最核心、且最无可替代的部分，甚至被称为光刻机的“灵魂”。
虽然 ASML 有三大核心技术（光源、工作台、镜头），但蔡司镜头的领先地位在 2026 年依然是“断层式”的。我们可以从以下三个维度来拆解为什么它是“难中之难”：
1. 物理极限的挑战：原子级的平整度
在 EUV（极紫外光）时代，由于 13.5nm 的波长极易被几乎所有物质吸收，光刻机不能使用传统透镜，必须使用反射镜组。
精度指标： 蔡司制造的 EUV 反射镜，其表面平整度要求达到原子级。
比喻论证： 行业内有一个著名的比喻：如果将这些镜面放大到德国领土那么大，其表面最高和最低处的起伏不能超过 1 毫米。
难点： 这种精度已经触及了宏观加工与量子效应的边界，目前全球只有蔡司能大规模稳定产出这种符合先进制程要求的镜片。
2. “测量”比“制造”更难
正如我们之前讨论过的，要制造出全球最准的镜片，你首先需要有一把“全球最准的尺子”。
检测系统： 蔡司拥有全球顶级的超精密干涉仪。这些检测设备本身的精度、环境控制（温控需达到 $0.01^\circ C$ 甚至更高）以及抗震能力，都是其他竞争对手（如尼康、佳能）甚至是中国国产设备在 2026 年仍处于全力攻坚阶段的领域。
护城河： 即使你拿到了蔡司镜片的图纸，如果你没有蔡司自研的标定和校准系统，你也无法通过修正工艺来消除那最后 $0.1nm$ 的形变。
为了确保这套全球最难的零部件不出现闪失，ASML 与蔡司的关系早已超越了买卖：
股权交织： ASML 持有蔡司半导体（ZEISS SMT）约 24.9% 的股份，并为其研发提供了巨额资金支持。
协同开发： 下一代 High-NA EUV（高数值孔径） 光刻机的成功，完全取决于蔡司能否按时交付更大、更复杂的变形反射镜。//@icefighter:回复@icefighter:AI还是可以的，我认为这个结论没错，蔡司才是制造业之神，比ASML还难，而ASML比GE发动机难。