回复@薯条蘸番茄: 以euv光刻机为例，操作精度在纳米量级，绘制1000亿个晶体管量级的集成电路。一个都不能不错。
纳米是什么概念，头发丝的6万分之一。
你一台光刻机放在那，光机台的自然抖动，都远超这个长度。
比如你厂子外面开过去一辆大卡车，会造成微米级别的振动。
而振动导致掩模与晶圆对位偏差。以EUV光刻机为例，0.5nm的位移即可造成14nm工艺节点芯片的图形重叠错误，良率下降30%。
1微米是1000纳米。
一台euv上，大概有40000个零部件，这40000个零部件，数千个供应商，全都要满足高精度加工需求。
问题是光刻机体量就这么大，而这些零部件别人也用不上，没啥经济效益。
这就是为什么光刻机是人类工业皇冠上最大的明珠。//@薯条蘸番茄:回复@莫南:莫大可以解释下攻克光刻机大概是个什么难度吗？