中国首台商用电子束光刻机亮相，芯片制造迈出重要一步

据南华早报报道，浙江大学余杭量子研究院研发的国产商业化电子束光刻机 “羲之” 已进入应用测试阶段，标志着我国在量子芯片核心装备领域取得重大突破。这台以书法家王羲之命名的设备，凭借其纳米级 “书写” 能力，为量子芯片研发提供了自主可控的 “中国刻刀”。羲之” 采用 100kV 高能电子束直写技术，精度达到 0.6 纳米，线宽控制在 8 纳米，性能指标与国际主流设备相当。其核心优势在于无需传统光刻所需的掩膜版，可直接在硅基材料上 “手写” 电路图案，并支持实时修改设计，如同用纳米级毛笔在芯片上作画。这种灵活性极大提升了芯片研发初期的调试效率 —— 传统光刻若需修改设计，需重新制作昂贵的掩膜版，而 “羲之” 可在数小时内完成迭代，将研发周期缩短 50%，成本降低 30%。

东方中科（002819）

核心逻辑：公司官网实锤其电子束偏转器是电子束光刻机的关键部件，通过电磁场控制高能电子束的精准偏转，直接影响设备精度1。该技术是光刻机实现纳米级“手写电路”的核心基础，无需掩膜版即可灵活修改设计，适配量子芯片的定制化需求。

市场反应：已被资金列为电子束光刻机概念龙头，股价启动初期。

腾景科技（688195）

核心逻辑：为“羲之”提供合分束器，专为光刻机光学系统定制，适配电子束光刻机的光路系统，服务于量子芯片的纳米级雕刻3。此前已为“九章二号”量子计算机提供高精度光学元件，技术积累深厚。

协同优势：兼具CPO（共封装光学）概念，覆盖光模块核心元件，符合算力与芯片双重技术路线。

冠石科技（605588）

核心逻辑：虽电子束光刻机无需掩膜版，但传统光刻工艺中掩膜版仍是主流。两者作为国内光罩龙头，技术协同性强，且市场资金已将其纳入电子束光刻概念（双双涨停）15。

弹性空间：若国产光刻技术路线并行发展，掩膜版需求仍存增量预期。