$上海新阳(SZ300236)$ 上海新阳在光刻胶领域已实现KrF光刻胶批量销售和ArF浸没式光刻胶取得销售订单，形成对日本产品在中高端制程的有效替代：
一、核心技术与产品突破
1. 全谱系光刻胶平台
已建成覆盖 i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF干法及ArF浸没式（193nm） 的完整研发、合成、配制生产及分析测试平台，实现关键材料自主可控。其中KrF光刻胶已有多款产品实现批量化销售，难度最高的浸没式ArF光刻胶也成功获得销售订单。
2. 研发投入强度
2020-2024年平均研发费用率高达17.9%（2021年达24.49%），远高于行业平均水平，持续投入i线、KrF、ArF光刻胶及先进制程刻蚀开发。
二、对日本产品的替代能力
1. KrF光刻胶：成熟制程主力替代
• 替代对象：东京应化、JSR等日系厂商的KrF光刻胶
• 应用制程：覆盖90-28nm逻辑芯片、模拟芯片和存储芯片制造
• 商业化进展：2024年底销售额同比增长超100%，已在中芯国际、长江存储等10余家头部晶圆厂形成批量供货
2. ArF浸没式光刻胶：先进制程突破
• 替代对象：日本信越化学、富士胶片垄断的浸没式ArF光刻胶
• 技术能力：配合国产光刻机可支持7nm制程多次曝光，关键光学参数达行业先进水平
• 验证进展：已进入客户端测试并取得销售订单，标志着在高端领域实现关键突破
3. 配套材料协同替代
除光刻胶本身，上海新阳在电镀液、清洗液、研磨液等配套材料也实现进口替代，形成"光刻胶+配套化学品"一体化解决方案，增强客户粘性。
三、产能与市场保障
• 现有产能：已建成100吨/年光刻胶产能，保障批量供应能力
• 规划产能：奉贤基地设计产能3.05万吨（含i线、KrF、ArF干/湿光刻胶），预计2026年中投产，远期光刻胶产能目标达500吨
• 客户覆盖：深度绑定中芯国际、长江存储、华虹等国内主流晶圆厂，产品验证周期大幅缩短
四、对标日本企业的竞争力
产品类型 上海新阳进展 被替代日本竞品 替代程度
KrF光刻胶 批量销售 东京应化、JSR 成熟制程全覆盖
ArF干法 样品测试 信越化学、富士胶片 初步验证阶段
ArF浸没式 取得订单 日本企业垄断产品 率先实现国产化突破
总结：上海新阳通过高强度研发投入+全谱系平台+客户深度绑定，在KrF和ArF光刻胶领域已形成对日本产品从"可用"到"量产"的实质性替代，尤其在存储芯片和逻辑芯片制造环节实现供应链自主可控，是当前国内光刻胶商业化进度最快的企业之一。