$上海新阳(SZ300236)$ 上海新阳在光刻胶领域已实现KrF光刻胶批量销售和ArF浸没式光刻胶取得销售订单，形成对日本产品在中高端制程的有效替代：
一、核心技术与产品突破
1. 全谱系光刻胶平台
已建成覆盖 i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF干法及ArF浸没式（193nm） 的完整研发、合成、配制生产及分析测试平台，实现关键材料自主可控。其中KrF光刻胶已有多款产品实现批量化销售，难度最高的浸没式ArF光刻胶也成功获得销售订单。
2. 研发投入强度
2020-2024年平均研发费用率高达17.9%（2021年达24.49%），远高于行业平均水平，持续投入i线、KrF、ArF光刻胶及先进制程刻蚀开发。
二、对日本产品的替代能力
1. KrF光刻胶：成熟制程主力替代
• 替代对象：东京应化、JSR等日系厂商的KrF光刻胶
• 应用制程：覆盖90-28nm逻辑芯片、模拟芯片和存储芯片