半导体材料:国产替代紧迫性+供需缺口催化

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在下非凡
 · 浙江  


半导体材料是先进制程扩产的核心配套,具备“市场大、国产化率低、耗材属性”三大优势,叠加日本管制加码,成为确定性主线:
1. 光刻胶:

日本垄断95%市场,国内I线光刻胶国产化率15%、KRF光刻胶5%、ARF光刻胶仅1%,2026年目标提升至25%、2027年40%,替代空间巨大。

当前晶圆厂库存告急(仅1-3个月),光刻胶保质期仅6个月无法大量囤积,且日本对ARF光刻胶审批趋严(需补充五轮材料,此前仅1-2轮),若管制升级,可能触发超预期涨价。国内厂商积极扩产,长新长存大力扶持供应链,近期国产替代进展已上新闻。
2. 空白掩模板:

国内某公司通过收购韩国子公司切入赛道,该子公司原为海力士供应商,一月底前将完成交割,后续将切入国内晶圆代工厂,填补高端掩模板空白,目标一期二期投产后市占率30%-40%,市场已打消收购不确定性担忧。

$聚和材料(SH688503)$ $南大光电(SZ300346)$ $矽电股份(SZ301629)$