光刻胶原料价格上涨：光引发剂供应格局梳理
前言：今年以来，光引发剂价格持续走高；8月累计涨幅约15%，全年累计涨幅26.7%。
一. 光引发剂概览
光引发剂也称光敏剂，是一类在紫外光或可见光照射下，迅速产生自由基、阳离子等活性中间体，从而引发聚合固化反应的化合物。
（1）核心作用：将光能转化为化学能，驱动材料快速固化，广泛用于光刻胶、UV涂料/油墨、胶粘剂等光固化材料。
（2）反应步骤：吸收光能并跃迁至激发态→能量转化（断裂/夺氢）→链式反应（交联固化）。
二. 光引发剂分类
2.1 自由基型
（1）特点：固化速度快，应用最广；分为裂解型、夺氢型，常见类型如TPO、BP（二苯甲酮）。
（2）应用：UV涂料/油墨、3D打印树脂、胶粘剂、G/I线光刻胶。
2.2 阳离子型
（1）特点：固化收缩小、附着力强，价格高；常见类型如二芳基碘鎓盐、三芳基硫鎓盐。
（2）应用：芯片封装胶、PCB油墨、光学涂层、负性光刻胶。
三. 与光致产酸剂（PAG）比较
光引发剂和光致产酸剂（PAG）均为光敏材料，但机理和应用差异显著。
3.1 机理区别
（1）光引发剂：吸收光能产生活性物质（自由基/阳离子），引发聚合反应，实现材料的光固化。
（2）PAG：吸收光能并发生分解，释放出酸性物质；酸通常作为催化剂，驱动后续反应（非直接引发聚合）。
3.2 光响应范围
（1）光引发剂：波长覆盖紫外光UV（200-400nm）、可见光（400-700nm），适用G线（436nm）、I线（365nm）胶。
（2）PAG：波长更短，适用KrF（248nm）、ArF（193nm）、EUV（13.5nm）胶。
3.3 光刻胶应用
（1）光引发剂：用于G/I线胶（传统紫外光刻胶），下游用于成熟制程芯片、显示面板、PCB。
（2）PAG：灵敏度更高，满足高精度需求；用于KrF/ArF/EUV光刻胶，配套DUV/EUV光刻工艺，下游用于先进制程芯片。
四. 供应格局
我国是全球光引发剂最大供应国，且产能高度集中。
行业前六：久日新材（2.2万吨）、强力新材（1.6万吨）、沃凯珑（1.3万吨）、IGM（1.2万吨）、扬帆新材（0.8万吨）、固润科技（0.5万吨）。
久日新材：光引发剂年产能2.2万吨国内第一，半导体PAG年产能500吨；KrF胶用PAG供货上海新阳、晶瑞电材。
强力新材：光引发剂年产能1.6万吨，半导体PAG年产能80吨；供货住友化学、JSR、三星等。
扬帆新材：光引发剂年产能0.8万吨，主要用于PCB油墨，供货深南电路、沪电股份。