中国极紫外光刻机激光器迎来重大突破！英诺激光主导千瓦级高功率薄片激光器！ 英诺激光千瓦级高功率薄片激光器研发成功！中国科学院大连化学物理研究所上个月已经成功申请专利！中国唯一！中国极紫外光刻机迎来重大突破！
千瓦级薄片激光器与极紫外光刻机存在技术支撑关系，前者为后者的光源产生提供关键技术支持，具体表现如下：
• 作为预脉冲核心技术：大能量、高重频的千瓦级薄片超快激光是支撑极紫外光刻机（EUV）光源预脉冲的核心技术。EUV光刻机需要高能量的激光脉冲来产生极紫外光，千瓦级薄片激光器可提供满足要求的脉冲，推动EUV光源功率线性增长，有助于提高EUV光刻机的性能和效率。
• 助力光源能量提升：极紫外光刻机依靠高能激光脉冲来蒸发微小的锡滴以形成13.5nm的EUV光线，这需要大功率的激光器。千瓦级薄片激光器具有大能量、窄脉宽、高重复频率等优势，能为EUV光源提供足够能量，保障光刻机的正常运行和生产能力