回复@洛雨: 以 2025 年国产 28 nm 浸没式 DUV 对标 ASML NXT:1980Di 的成本模型——整机约 5 亿元——为基准。
因此，永新光学提供的“定位、测量系统核心光学部件”在单台 28 nm DUV 光刻机中的价值量约为 350–400 万元，占整机成本的 0.7 % 左右。虽然比例不大，但属于“卡位”环节：光学精度直接决定套刻误差（OVL）能否 < 2 nm，客户验证周期长、替代成本高，一旦通过即锁定 5-8 年持续订单。按 2026-2028 年国产 28 nm DUV 预计出货 90–120 台测算，对应增量市场空间 3–4 亿元，公司毛利率可维持 55 % 以上。
回应你为什么永新光学是光刻机里最菜的，确实技术储备上够不到前道工序高价值环节，bom占比小，唯一值得期待的是市场未定价这部分业务，以及明年年报跟随浸润式DUV官宣，开永新开始披露光刻机具体业务情况//@洛雨:回复@笑涨哥:他是光刻机里最菜那个