新凯来（SiCarrier）作为中国半导体设备领域的“国家队”，其全流程设备矩阵的突破直接带动了产业链上下游的国产替代进程。以下是基于最新合作动态和技术协同性梳理的核心概念股，涵盖关键零部件、材料及技术合作方，部分标的已通过订单验证或技术适配进入量产阶段：
一、核心零部件供应商
1. 新莱应材（300260）
- 技术卡位：国内唯一实现高端真空系统国产化的企业，为新凯来刻蚀、薄膜沉积设备提供超高纯净度管路系统、真空阀门，纯度达99.999%（西马标准）。
- 订单进展：2024年三季度订单同比增长48%，半导体业务毛利率突破30%，2025年新增数亿级订单覆盖先进制程液冷组件。
- 客户覆盖：同时供货中芯国际、应用材料等国际巨头，形成“国产替代+全球渗透”双轮驱动。
2. 至纯科技（603690）
- 核心设备：湿法清洗设备独家供应商，2021年获新凯来首批3000万元订单，2024年订单同比增长300%，设备适配逻辑芯片、存储芯片及第三代半导体工艺。
- 技术突破：独创硫酸回收技术可单台年省160万美元成本，28nm清洗设备已量产，14nm以下设备进入中芯国际验证阶段。
- 协同效应：与新凯来联合开发工艺，推动国产设备在长江存储等晶圆厂的验证提速。
3. 奥普光电（002338）
- 合资研发：控股股东长春光机所与新凯来合资成立长光集智，独家供应光刻机曝光系统核心部件，纳米级物镜精度技术已应用于新凯来原型机。
- 技术进展：适配DUV及EUV光源的光学模组通过测试，成为A股唯一明确涉及5nm光刻机供应链的公司。
- 资本动作：参股公司长光辰芯拟赴港上市，聚焦高性能CMOS图像传感器，间接支撑新凯来量检测设备研发 。
4. 利和兴（301013）
- 业务范围：核心设备组装与测试环节供应商，提供精密结构件、自动化测试夹具，覆盖刻蚀、薄膜沉积设备全流程。
- 订单规模：2024年营收5.77亿元（同比+22.8%），新凯来为前五大客户之一，预计订单贡献约7-8亿元，相当于“再造一个公司” 。
- 技术协同：参与新凯来设备整机装配，技术指标满足5nm制程需求。
5. 富创精密（688409）
- 产品适配：供应刻蚀机腔体、法兰等精密金属部件，7nm工艺产品已量产，通过ASML认证并进入其供应链。
- 订单增长：2024年半导体业务收入占比超50%，新凯来为头部客户之一，订单金额随设备量产持续攀升。
二、关键材料供应商
1. 江丰电子（300666）
- 靶材突破：国内唯一实现5nm制程靶材量产的企业，PVD设备所需超高纯金属靶材通过台积电认证，与新凯来PVD设备形成技术协同。
- 静电吸盘：2025年1月与韩国KSTE合作引进该技术，计划国产化量产，适配新凯来量测设备需求 。
- 市场预期：虽未官宣合作，但技术布局与新凯来设备高度契合，被市场视为潜在核心供应商。
2. 南大光电（300346）
- 光刻胶适配：ArF光刻胶通过中芯国际28nm产线验证，适配新凯来自主研发的SAOP曝光工艺，用于5nm等效制程芯片制造。
- 技术指标：线宽均匀性控制在3nm以内，对比度达12以上，接近日本信越化学高端产品水平，2024年光刻胶业务收入同比+170%。
- 产业链协同：与华为联合开发光刻胶智能检测系统，提升缺陷分析速度10倍，间接支撑新凯来工艺优化。
3. 路维光电（688401）
- 掩膜版供应：自2024年起向新凯来批量交付40-55nm光掩膜版，28nm产品进入产线验证阶段，与SAOP工艺形成技术互补。
- 产能扩张：2025年产能提升至10万片/年，订单覆盖中芯国际、华虹集团等头部晶圆厂。
4. 华特气体（688268）
- 电子特气：供应高纯度氟碳类气体（纯度99.9997%），用于新凯来刻蚀设备，虽业务占比小（<5%），但技术通过ASML认证，具有战略意义。
- 产能规划：2025年扩产500吨/年三氟化氮，纯度达99.999%，满足先进制程需求。
三、技术合作与工艺协同方
1. 茂莱光学（688502）
- 光学部件：为新凯来EUV光刻机提供物镜及匀光系统，是国内唯一实现量产的企业，支撑光源精准调制，镜片加工精度达纳米级。
- 研发进展：参与新凯来DUV光刻机光学模块开发，直径300mm器件突破常规精度限制，预计2026年随设备量产进入收获期。
2. 正帆科技（688596）
- 气体输送模组：核心产品GasBox用于新凯来刻蚀、薄膜沉积设备，2024年半导体业务收入占比51%，新凯来为头部客户之一。
- 供应链验证：同时向北方华创、拓荆科技批量供货，技术成熟度获行业认可。
3. 同惠电子（833509）
- 测试设备：供应精密阻抗分析仪、半导体特性分析仪，用于新凯来功率测试设备研发，适配5nm制程需求，2024年获大基金二期增持至2.18%。
- 客户粘性：与华为海思、新凯来形成长期合作，成为北交所唯一同时进入两大供应链的测试设备商。
四、潜在受益与战略布局标的
1. 冠石科技（605588）
- 掩膜版协同：量产半导体级石英掩膜版，40-55nm产品适配SAOP工艺，28nm产品进入新凯来验证阶段，2024年产能利用率达90%。
- 技术延伸：与新凯来联合开发下一代光刻胶配套材料，目标替代日本JSR产品。
2. 蓝英装备（300293）
- 精密清洗：曾传闻供应清洗系统，但公司2025年4月澄清“暂未合作”，需关注后续设备量产带来的配套机会 。
3. 盛剑环境（603324）
- 废气治理：泛半导体工艺废气处理龙头，虽未直接确认合作，但新凯来设备量产可能带动其系统需求，2024年半导体业务订单同比+109% 。
五、技术突破与产业链意义
新凯来的崛起标志着中国半导体设备从“单点突破”转向“系统突围”：
- 技术路线：通过SADP、ALD等创新技术绕开ASML专利壁垒，28nm光刻机已完成研发，5nm DUA技术进入试产阶段。
- 产业链闭环：核心零部件国产化率达100%，带动新莱应材、至纯科技等企业突破国际垄断，形成“设备-材料-工艺”协同生态。
- 市场验证：2025年9月CSEAC展会后新增订单超5亿元，总订单突破17亿元，客户覆盖中芯国际、长江存储等头部晶圆厂。
风险提示
1. 技术验证风险：部分设备（如EUV光刻机）仍处研发阶段，量产进度可能不及预期。
2. 订单波动风险：半导体行业周期性波动可能影响新凯来设备采购节奏。
3. 国际竞争压力：ASML、应用材料等巨头加速技术迭代，国产替代需持续突破。
建议重点关注新莱应材、至纯科技、奥普光电、江丰电子、南大光电等已通过技术验证或订单明确的标的，同时跟踪茂莱光学、冠石科技等技术协同方的研发进展。