冠石科技近况交流电话会(转)

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龙行DaDa
 · 湖南  


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一、公司基本情况与业务转型历程


1、传统业务与客户结构:

$冠石科技(SH605588)$ 成立于2002年,主营半导体显示器件和特种胶粘性产品的研发、生产与销售。半导体显示器件含偏光片、功能性器件等,应用于液晶电视、智能手机等设备。主要客户为京东方、彩虹光电等显示面板龙头企业。

2、半导体掩膜板转型里程碑:
公司向半导体掩膜板领域转型关键节点:2023年5月签宁波光掩膜板项目投资协议,10月开工;2024年1月厂房封顶,7月首台电子束光刻机交付,10月试产送样;2025年3月实现55纳米光掩膜板交付及40纳米产线通线(不到2年实现国内第三方厂家首次量产交付55nm以下中高端半导体掩膜板),是战略布局里程碑,也是迈入半导体行业新起点。

二、宁波子公司技术与产能进展


1、技术团队构成:

技术团队由老中青成员组成,形成技术骨干。

第一梯队为处长级台藉干部(包括来自台湾电子所、台积电$中芯国际(SH688981)$,具备20 ∽30年行业经验;
第二梯队为副经理,拥有5 ∽6年行业经验;
工程师团队则有2 ∽3年工作经验。

团队覆盖从建厂、数据处理到自产制造的全流程工作经验。此外,现场正在招聘理工背景、本科以上学历的应届毕业生或其他毕业生以补充团队。

2、设备与产能现状:
目前设备到位率已达九成。
产能规划主要针对国内12寸线及部分8寸先进制程Fab厂,产品集中在55 ∽28nm节点
当前持续与各大厂进行沟通和验证,近期将通过正式验证。
整体项目进展顺利,较原计划提前了约一个季度。

三、技术节点开发与验证进展


1、40/55nm产品验证:

40nm与55nm掩膜板已送样至国内12寸Fab厂验证,处于流片验证阶段。
因签保密协议未公开具体客户名称。
流片周期约3个月,整体验证周期6 9个月。
海外有特殊产品已送样(国内第三方半导体掩膜板首家布局海外),近期将完成最终确认。

2、28nm设备计划:

28nm关键设备(光刻机)原计划2027年进场,现提前至2025年底到位,预计2026年Q2风险量产(意味着28nm量产提前到2027年)。

提前的原因是公司与国外厂商沟通,展示团队建厂进度、高层拜访并利用人脉关系获其支持。

3、14nm技术能力:
28nm光刻机到位后,技术上可支持14nm掩膜板生产,但公司不会公开宣称具备该能力。

四、行业竞争格局与公司优势


1、行业竞争现状:

国内上市公司中,清溢、路维、龙图等厂商主要集中于成熟制程领域
其中,路维转向陆新领域,龙图已推进至90nm节点,清溢目前尚处建厂阶段。
中芯国际配套的掩膜板最先进且产能最优。迪思、中威等老牌厂商则集中于0.18μm等8寸线或6寸线成熟节点。
此外,华为扶持的山东两家厂商、鑫瑞光(大基金支持)及合肥的金美、和光等,主要为内部配套使用。从第三方竞争格局来看,宁波冠石在技术节点布局上处于前沿,一步到位至55∽ 28nm(包括14nm)节点,目前走在较为领先的位置。

2、公司竞争优势:
宁波冠石的竞争优势主要体现在技术团队、设备布局及量产效率三方面。

技术团队由从业20 ∽30年的台籍骨干主导,成员包括曾参与台湾电子所、台积电中芯国际等建厂的资深人员,具备从0到1的全流程经验。

设备布局一步到位,直接针对55 ∽28nm节点。量产效率突出,2024年7月设备搬入,仅两三个月后(9 10月)即实现产品产出,大幅缩短了爬坡周期。28nm掩膜板需40 ∽50层叠加且误差仅几纳米,技术门槛较高,公司团队凭借丰富经验,优势明显。


五、未来规划与盈利预测

1、设备与量产规划:
28nm光刻机预计于2025年底到位,提前交付得益于公司建设进度、采购平台及采购链资源。设备到位后,装机到可生产约需3个月,客户验证周期6∽ 9个月(保守估计),28nm预计2026年底可验证通过并起量。

2、盈利预测与折旧影响:
28nm全面量产后(计划2028年),预计年产12,450片,营收约8.5亿,净利润率20%(含折旧)。
当前设备已大部分交付并开始折旧,按十年折旧期算,每年折旧约1亿。
现有主营业务年利润约4000万且稳定。考虑每年1亿折旧,宁波子公司营收达2 ∽3亿时,合并报表可盈亏平衡,整体扭亏预计在2026年底至2027年初。

六、行业需求与国产替代空间


1、行业需求增长驱动:

多次曝光工艺显著拉动掩膜板需求。以中芯国际为例,为达先进制程采用多次曝光技术,虽良率降低,但掩膜板需求增大。
常规28纳米制程每套需40 ∽50片掩膜板,多次曝光后增至70片以上,超出预期。
28纳米掩膜板报价因客户定制而异,常规40 ∽50片报价在100 ∽150万美金。国内12寸Fab厂扩产快,技术从55、40纳米向28纳米发展,预计2027∽ 2028年,28和22纳米节点迎高峰。

2、国产替代现状:
国内高端(28纳米及以下)掩膜板国产化率不足10%,由日本DNP、美国Photronics等海外厂商主导。国内虽建厂多,但高阶产品国产占比低。国内企业优势在于数据留国内更安全,且与客户距离近,沟通便利。

Q&A

Q: 宁波子公司的设立背景是什么?当前技术、产能、设备进展情况如何?后续规划是怎样的?
A: 目前宁波子公司设备到齐率约九成。团队由老中青技术骨干组成,处长级成员为有20-30年经验的台藉骨干,副经理有5-6年行业经验,工程师有2-3年工作经验,并招聘本科以上理工背景应届毕业生。当前业务主要针对国内12针线及部分8针线先进费本,持续与各大厂沟通验证;作为唯一国内掩膜厂海外拓展项目,近期将通过正式验证。整体进展顺利,较原计划提前一个季度。

Q: 掩膜板产品目前聚焦于28到55节点的执行进展,当前产品结构占比情况如何?28节点的具体进展如何?后续是否有向14节点发展的计划?
A: 28节点技术储备已准备完成,关键瓶颈在于一台关键光刻机的引进。该设备原计划2028年引进,现提前将于今年年底到位,计划于明年Q中期进行风险验证。

Q: 关键设备引进时间由原计划的2028年提前至今年年底,并计划于明年Q2产生贡献的背景是什么?
A: 关键设备引进时间提前的背景是:国外设备厂商持续关注公司团队建设及建厂进度,公司管理层与董事长通过拜访其总部并利用既有人脉关系请求支持,鉴于公司为新成立企业且首台关键设备的重要性,最终获得厂商大力支持。

Q: 28nm产品目前是否已向客户送样?
A: 28nm产品尚未送样,因关键设备的报工期未到。

Q: 40nm与55nm节点产品自3月份相关仪式后目前的进展如何?
A: 40与55节点产品已送客户验证中。

Q: 涉及40nm、55nm的客户是否包括晶合、华虹等?
A: 因与相关方签署保密协议,不便证实具体客户,但明确涉及12英寸的晶圆膜层。

Q: 公司去年刚建成工厂的该业务,其营收数字的季度提升情况应如何预期?
A: 从技术角度看,产品送客户流片验证周期约9个月。当前国内主流晶圆厂产能满载,导致公司光掩膜送样速度受外部产能限制。总部将进行营收预测,目前55nm和40nm掩膜版已送客户验证,处于流片验证阶段。

Q: 当前光掩膜产品送样验证的客户是否主要为中国大陆客户?海外客户的情况如何?
A: 当前光掩膜产品送样验证的客户主要为中国大陆客户;海外客户涉及其他特殊产品,相关产品已送样,预计近期完成最终确认并通过验证。

Q: 28纳米光刻机引入后,其技术能力是否达到14纳米制程水平?
A: 从技术角度可明确实现,该设备引入后技术能力已达到14纳米制程水平。

Q: 公司拓展业务过程中主要竞争对手有哪些?Facebook当前使用国产产品的意愿如何?
A: 公司拓展业务的主要竞争对手包括:路维、龙图、清溢等上市公司;中芯国际作为英浩配套企业,是国内Mash up领域技术最先进、产能最优的企业;迪思、中威等老牌企业集中于0.18节点的8寸或6寸成熟产线;华为扶持的山东两家企业、鑫瑞光及合肥的金美、和光。目前第三方竞争格局中,宁波冠石凭借一步到位布局50∽28节点的先发优势,处于行业领先地位。

Q: 过去几年其他企业在该领域投入,但两三年无进展,宁波冠石能够快速实现突破的原因是什么?未来40∽28纳米节点是否会面临激烈竞争?
A: 宁波冠石快速突破的核心原因包括两方面:一是设备布局一步到位;二是技术团队由从业20-30年的台湾藉骨干组成,成员曾参与台湾电子所、台积电中芯国际等企业的建厂工作,具备从0到1的全流程经验,大幅缩短了产线爬坡时间。
其他企业虽可能获取设备,但技术团队实力弱于冠石。
关于40∽28纳米节点竞争,由于技术门槛较高,28纳米掩膜需40-50层叠加且误差仅几纳米,国内12寸线28纳米良率普遍较低,仅少数企业可实现,因此短期内该节点竞争压力较小。

Q: 未来发展规划,包括2024年底28纳米设备进场计划及后续战略布局如何?
A: 二期规划由董事长带领推进,技术问题可提供解答,投资相关事宜由总部负责。

Q: 28nm光刻机提前至今年底交付的原因是什么?
A: 提前交付主要得益于公司建设进度推进、供应商配合及采购平台与采购链资源支持。

Q: 28设备到位后,后续节点时间如何预判?
A: 设备为进口设备,需遵守出口许可证相关规定。公司持续聚焦28纳米业务,技术层面具备向更小制程推进的能力,但不对外宣称可实现14、16纳米制程,仅明确28纳米可实现量产。

Q: 设备到位后,28纳米工艺的首片生产、客户交付、验证及起量产生收入的时间节点如何预判?
A: 设备到位后,从装机到可生产首片的时间保守估计为3个月,验证周期预计为6-9个月。

Q: 国产化后产品价值量是否更具性价比?
A: 目前以mask为例,原物料仍依赖进口;设备端虽有国产化进展,但高阶设备仍需依赖国外。针对国内原物料及国产化设备,技术团队正进行评估与接洽,已与机械基板、机械检验清洗等领域相关方保持良好沟通。

Q: 日本或美国的光罩厂是否存在对大陆断供的可能性?
A: 目前未观察到断供迹象,因光罩行业未被列入美国相关清单。

Q: 目前国内40∽55nm及后续28nm工艺的国产掩膜版市场占比情况如何?
A: 目前国内40∽55nm及28nm工艺的国产掩膜版占比仍较低,主流供应商为出版、DNP和福创影视等。尽管国内新建厂较多,但高阶产品国产占比仍处于较低水平。

Q: 国内40∽28nm产品的国产供应商当前占比具体为多少?是否达到10%或5%?
A: 根据之前统计数据,国内40∽28nm产品的国产供应商当前占比不足10%。

Q: n加3制程在中芯是否被称为a工艺?其对掩膜板行业有何影响?
A: 关于n加3制程在中芯的命名情况暂不明确。从技术角度看,中芯国际为实现先进制程采用多次曝光技术,对掩膜板行业而言,多次曝光会增加需求量;对费博强而言,因多次曝光导致良率降低,故不利。

Q: 中芯国际采用多次曝光技术后,mask需求量的具体变化情况如何?
A: 初步估计,原本一套产品对应二十五至五十片mask,采用多次曝光技术后,需求量增加至七十片左右,高于初始预测值;此外,一套28nm产品可能涉及二十几片高阶ARF产品。

Q: 一套ARF高阶产品的价值量大概是多少?是否能达到200万?
A: 具体价值量不便透露,因产品按片计价且受等级影响,不同厂商的工艺及超片数存在差异,导致报价不同。

Q: 28纳米制程产品的报价范围是多少?
A: 以28纳米制程为例,常规40-50片的报价在100-150万美金之间,具体价格因客户定制需求不同而变化,为大概区间范围。

Q: 当前各大fab利用率较高可能产生溢出需求,公司是否捕捉到相关业务机会?如何展望新客户拓展情况?
A: 公司持续与潜在客户保持接触。

Q: 客户是否已对公司产品进行验证?后续是否有获取订单的可能性?
A: 公司目前已与客户签署相关文件,但尚未进入订单阶段;正优先向主要战略合作伙伴送样,送样过程涉及复杂工程程序,周期约6-9个月;董事长指示对战略合作伙伴采取稳扎稳打策略,因高阶产品复杂度较高。

Q: 如何估算国内掩膜板行业规模?高端需求占比大概是多少?潜在客户有哪些?
A: 从全球格局看,中国大陆半导体产线扩张速度与成长力最强。国内技术节点从0.18微米、90纳米逐步向55纳米、40纳米发展,目前正朝28纳米方向推进。预计2026-2028年国内产线将进入爬坡阶段,2027-2028年针对28纳米、22纳米节点的需求将迎来另一波高峰。

Q: 中芯国际展示JAA工艺对掩膜板行业有何影响?
A: 相关讨论可能过于深入,通常JAA工艺涉及5纳米、3纳米等先进节点。中芯国际未官宣此类工艺信息,且对该信息来源存疑。

Q: 掩膜板量产后毛利率预计达到什么水平?单套价格约100-150万美元的情况下,毛利率如何估算?
A: 根据规划,2028年实现28纳米掩膜板全面量产后,预计年产量为12,450片,营收约8.5亿元,净利润率为20%。

Q: 接近两个亿的净利润假设是否包含折旧?该新产线是否存在折旧高峰期?
A: 今年已开始计提折旧,设备大部分已交付,按十年折旧计算,每年折旧额约为一亿多元。

Q: 未来考虑折旧因素的情况下,公司整体扭亏为盈预计将在哪个时间段实现?
A: 预计2026年底至2027年初可实现整体扭亏为盈。现有主营业务全年盈利约4,000万元,处于稳定状态。扣除约1亿元折旧后,按8亿-8.5亿元营收、20%净利润率测算,宁波公司营收达到2亿-3亿元时可实现盈亏平衡。

Q: 目前其他企业是否无法购买掩膜行业设备,冠石是否能够购买,若其他企业持续扩产,冠石的设备采购优势能否维持?
A: 冠石的设备采购优势可以维持。主要原因是冠石与供应商保持友好合作关系,持续共享扩产计划及建厂进度信息,并邀请供应商到国内出差及参观工厂,从团队建设等多方面给予供应商充分信心,从而获得供应商较大支持力度。