光刻机早期技术不成熟，作为半导体发源地的美国凭借先发优势，诞生 GCA、Perkin Elmer 等巨头，但销量较低；当技术初步定型后，凭借日本政府的大力扶持，日本充分发挥后发优势，尼康与佳能一跃超过美国光刻机厂商，长时间分列光刻机第一、二名；当新一轮技术攻关遇阻后，ASML 先后通过双工件台、浸润式以及 EUV 光刻机，三大技术跨越领先全球，由此近乎垄断先进制程光刻机至今。