❗️【天风电新】聚和材料｜深度：拟收购Blank Mask业务，受益先进制程扩产-0124
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1、拟收购SKE Blank Mask资产，看好国产化率提升
Blank Mask国产化率极低，与光刻胶类似。国产KrF PSM刚开始送样，高端产品如ArF PSM和OMOG，国产化仍处于初期阶段。作为PhotoMask上游核心材料，国产化率亟待提升。
SKE Blank Mask主要产品为适配DUV-ArF及KrF半导体光刻工艺的掩膜基板，主要应用类型为PSM相移掩模版，能够填补国内空白。收购完成后，聚和材料#在国内分两期建设4万片产能，加速国产化率提升。
2、格局最好的半导体材料，winner takes all
Blank Mask技术瓶颈、设备供应的限制意味着后来者很难追上。ArF-i、EUV等高端产品更需与晶圆厂深度绑定联合研发。
目前产品已通过SK海力士、TMC、新锐光、迪思微、中微掩模等国内外半导体客户的量产验证，并实现稳定销售，率先扩产奠定行业领先优势。
3、受益先进制程扩产，业绩有望量价齐升
N+2制程需用到四重曝光工艺，需要四套掩膜版；且先进制程的价值量成倍提升。Blank Mask是#最受益于先进制程扩产的材料，远期市场空间有望超100亿。
先进制程的Blank Mask价格远高于成熟制程，随着产能爬坡及产品结构优化，公司Blank Mask将迎来量价齐升。
投资建议：公司中长期规划8万片扩产，对应24亿收入，40%净利率贡献10亿净利润，给予30X PE对应300亿市值。光伏导电银浆主业100亿，合计看400亿目标市值，保持重点推荐。
$聚和材料(SH688503)$