光刻胶部分个股解析
光刻胶的主要作用在于成像，它是一种对光敏感的混合液体，由感光树脂、增感剂和溶剂三大成分组成。在光刻工艺中，如同一种特殊的胶水，能将细微的电路设计图案，从掩模版转移到硅片等基板上。直接影响加工成品的精度和良率，是微细加工技术的关键材料。
半导体，按技术难度递增分为G线、I线、KrF、ArF和EUV光刻胶。G线和I线用于6-8英寸成熟制程；KrF适配8英寸；ArF是当前核心，主要用于12英寸成熟制程。而EUV因国内缺乏对应光刻机，尚处理论研究阶段。
光刻胶及特种橡胶助剂双龙头，积极布局电子材料。是国内显示面板光刻胶第一大供应商，并在半导体光刻胶进展较快。
电子化学品包含半导体光刻胶、显示面板光刻胶及PI材料等。其光刻胶进程走在国内前列，子公司北旭电子是本土第一大供应商，也是首家实现本土化生产的OLED用光刻胶供应商。2024年国内市占率达到27%，在国内最大面板厂占有率达到55%以上。
半导体光刻胶方面，全资子公司北京科华开发了I线、KrF、ArF等产品。并拥有ASML光刻机，所以在技术方面有诸多积累。2024年半导体光刻胶营收超3亿，同比增长50%。其中I线同比增长61%，KrF增长69%。而ArF光刻胶已通过客户验证，并开始陆续上量产生营收。
半导体材料比较全面的公司，且产业化能力极强，每次打破垄断后都能实现快速成长。先后在MO源和电子特气打破国外垄断，成为国内龙头，并进军高端光刻胶。
业务结构上，前驱体材料和特气分别占比24%和63%，光刻胶目前占比不高。前驱材料主要是MO源，是制造半导体材料的一种特殊原料。技术壁垒很高，之前由外企霸占。公司通过自主技术攻克，成为国内首家MO源自产者。拥有自主知识产权，实现MO源全系列产品产业化。成为国内和全球主要供应商，国内市占率超40%，全球超30%，产品毛利率长年稳定40%以上。
电子特气产品包括磷烷、砷烷氢类电子特气，两者是高纯特气家族中技术门槛和开发难度最高品种。其他产品包括三氟化氮、六氟化硫。还规划新建四氟化锗、三氟化磷等氟类特气。客户有台积电、中芯国际、英特尔、长江存储、华润微等。
布局了光刻胶。公司直接跳过低端的I线与G线，以及KrF这三种成熟制程的光刻胶，而跃级研发高端ArF光刻胶。并成为国内首家，通过下游客户ArF光刻胶验证的公司。目前已有三款产品通过验证并实现销售，主要应用于50nm的存储芯片和55nm的逻辑芯片，并有多款产品在客户认证。
PCB光刻胶龙头，但半导体光刻胶占比小，发展稍慢。因AI算力建设拉动PCB需求，可能从中受益。
PCB光刻胶占比超95%，而显示用及半导体光刻胶，占比不足5%，年收入只有两千万级别（跟彤程新材3亿有很大差距），另外还有少许特种油墨。
在PCB光刻胶方面，具有竞争优势。产品以湿膜光刻胶、阻焊油墨为主，是行业内生产PCB感光油墨产品，品种最为齐全的企业，市场占有率最高，毛利率达到37%。
半导体材料平台型企业，国内唯一能够满足芯片90-14纳米铜制程全部技术节点对电镀、清洗产品要求的本土企业，同时积极布局光刻胶、抛光液。
半导体材料营收占比七成，涂料三成。涂料业务以PVDF氟碳粉末涂料、氟碳喷涂涂料等氟碳涂料产品为主。用于建筑、钢结构工程、船舶车辆等领域，曾应用于首都国际机场、东方明珠等标志性工程。
半导体材料业务，产品包括晶圆制造及先进封装用电镀液及添加剂、清洗液、光刻胶、化学机械研磨液、蚀刻液等。适用于逻辑、模拟和存储芯片。
公司在多个细分领域竞争力突出，电镀液和清洗液位居全球头部、国内顶尖。其电镀液及添加剂可满足芯片90-14nm铜制程全技术节点需求，为国内唯一，在先进封装领域表现亮眼。清洗液实现14nm及以上节点全覆盖，28nm干法蚀刻后清洗液已规模化量产，14nm产品亦量产销售。蚀刻液经四代迭代，适配复杂图形高精度蚀刻，是国内头部存储芯片企业的独家供应商，将受益于国产存储芯片自主可控的加速推进。
光刻胶领域，经过8年的开发布局，已处于国内领先。建成涵盖I线、KrF、ArF干法及浸没式光刻胶的完整研发生产平台，KrF光刻胶多款产品批量化销售，ArF浸没式光刻胶已取得销售订单。2024年光刻胶产品销售规模，同比增长超100%。同时拥有4台光刻机持续研发测试，并有进行EUV光刻胶的研发。