利和兴：新凯来的半导体设备核心供应商

利和兴（301013）作为新凯来的核心供应商，双方合作主要围绕半导体设备的精密零部件供应与测试服务展开，具体涉及以下领域：

1. 合作设备类型

刻蚀设备：利和兴参与新凯来“武夷山”系列刻蚀设备的组装与测试环节，该设备用于芯片制造中的图形刻蚀工艺。薄膜沉积设备：包括物理气相沉积（PVD）和原子层沉积（ALD）设备，利和兴为“阿里山”“长白山”等系列提供精密结构件及检测服务。量检测设备：合作覆盖缺陷检测（如“岳麓山”系列）和光学量测设备（如“天门山”系列）的关键零部件

。

2. 合作深度与技术协同

利和兴不仅提供零部件，还深度参与设备测试平台开发。例如：

为薄膜沉积设备定制高纯度气体输送模组，适配7nm/5nm先进制程。开发专用老化测试平台，解决高功率设备的散热验证难题

。

3. 商业价值与产能规划

根据利和兴高管披露：

新凯来百亿订单中，精密零部件约占设备价值的30%，利和兴有望获得其中一半份额（约7-8亿元收入），相当于其全年营收规模。公司计划募资数亿元扩建产线，并可能通过并购强化半导体设备供应链能力

。

4. 行业背景补充

新凯来作为国产半导体设备龙头，产品命名采用中国名山系列（如刻蚀设备“武夷山”、沉积设备“阿里山”），利和兴的合作覆盖其多款主力设备。当前双方合作聚焦于国产替代需求最迫切的刻蚀与薄膜沉积领域，技术适配中芯国际、长江存储等头部晶圆厂的产线需求$利和兴(SZ301013)$