奥普光电与新凯来在光刻机曝光系统上的具体合作

奥普光电(SZ002338)与新凯来在光刻机曝光系统领域的合作主要体现在以下几个方面：

1. 合资公司建立与技术协同

奥普光电的控股股东长春光机所与新凯来共同成立了合资公司长光集智，专注于光刻机核心光学系统的研发

。该合资公司的主要合作内容包括：

研发深紫外光源和光学镜头技术开发纳米级物镜系统，分辨率达22nm，已通过中科院微电子所验证计划2026年量产适配EUV光刻机的光学模组

2. 具体技术合作内容

在曝光系统方面，奥普光电主要提供以下核心部件和技术：

光学镜片材料：包括K9光学玻璃、人造萤石(CaF₂)等高端材料，通过肖特公司间接供应给ASML等厂商的透镜系统

光栅编码器与传感器：由控股子公司长春禹衡光学生产，是光刻机对准和曝光环节的关键部件

军用技术转化：将军用高精度转台技术应用于光刻机工件台，定位精度达到1nm

深紫外物镜系统：已应用于新凯来光刻机原型机

3. 供应链与产业化合作

奥普光电被列为新凯来