奥普光电与新凯来在光刻机曝光系统上的具体合作

奥普光电(SZ002338)与新凯来在光刻机曝光系统领域的合作主要体现在以下几个方面：

1. 合资公司建立与技术协同

奥普光电的控股股东长春光机所与新凯来共同成立了合资公司长光集智，专注于光刻机核心光学系统的研发

。该合资公司的主要合作内容包括：

研发深紫外光源和光学镜头技术开发纳米级物镜系统，分辨率达22nm，已通过中科院微电子所验证计划2026年量产适配EUV光刻机的光学模组

2. 具体技术合作内容

在曝光系统方面，奥普光电主要提供以下核心部件和技术：

光学镜片材料：包括K9光学玻璃、人造萤石(CaF₂)等高端材料，通过肖特公司间接供应给ASML等厂商的透镜系统

光栅编码器与传感器：由控股子公司长春禹衡光学生产，是光刻机对准和曝光环节的关键部件

军用技术转化：将军用高精度转台技术应用于光刻机工件台，定位精度达到1nm

深紫外物镜系统：已应用于新凯来光刻机原型机

3. 供应链与产业化合作

奥普光电被列为新凯来的核心供应商之一，直接提供光刻机物镜组及光学晶体等关键组件在2025年上海国际半导体展会上，新凯来发布的设备中多次提及奥普光电的技术支持双方合作实现了核心零部件100%国产化，降低了设备成本并提升了市场竞争力

4. 行业展会与技术展示

在2025年3月的SEMICON展会和9月的CSEAC2025展会上：

新凯来展出的光刻设备中包含了奥普光电提供的曝光系统组件展示了双方联合开发的深紫外光源技术曝光系统技术参数显示套刻精度<2nm，分辨率逼近ASML的TWINSCAN NXT:2000i

合作意义与前景

这种合作模式体现了"国家队+市场化"的混改架构优势，通过整合长春光机所的研发实力和新凯来的产业化能力，加速了国产光刻机核心技术的突破。随着新凯来计划在2026年实现DUV光刻机的量产

，奥普光电作为其曝光系统核心供应商，有望持续受益于这一合作关系的深化。