半导体工业的 “血液” 光刻胶 十家核心公司及概念股梳理(后附表格)

#光刻胶#

光刻胶 (Photoresist) 又称光致抗蚀剂，是一种对光、电子束等辐射敏感的功能性高分子材料，核心作用是在光刻工艺中作为图形转移媒介，将掩模版上的微米 / 纳米级图案精准复制到半导体晶圆、显示基板或 PCB 表面，是电子信息产业中决定器件集成度与性能的 "战略节点" 材料，被誉为半导体产业的 "命门" 和 "流动的黄金"。

光刻胶的应用本质是“精细图形转移”，其市场需求高度绑定电子信息产业的发展，核心集中在半导体、显示面板、PCB 三大支柱领域，三者合计占据光刻胶市场的绝大部分份额。其中，半导体领域的光刻胶技术壁垒最高，是各国科技竞争的重点；显示面板领域的光刻胶需求随消费电子（手机、电视、车载屏幕）的更新迭代而持续增长；PCB 领域的光刻胶则伴随 5G、物联网等行业的发展稳步扩容。

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1. 12 月 1 日：韩国《亚洲经济