
光刻胶 (Photoresist) 又称光致抗蚀剂,是一种对光、电子束等辐射敏感的功能性高分子材料,核心作用是在光刻工艺中作为图形转移媒介,将掩模版上的微米 / 纳米级图案精准复制到半导体晶圆、显示基板或 PCB 表面,是电子信息产业中决定器件集成度与性能的 "战略节点" 材料,被誉为半导体产业的 "命门" 和 "流动的黄金"。
光刻胶的应用本质是“精细图形转移”,其市场需求高度绑定电子信息产业的发展,核心集中在半导体、显示面板、PCB 三大支柱领域,三者合计占据光刻胶市场的绝大部分份额。其中,半导体领域的光刻胶技术壁垒最高,是各国科技竞争的重点;显示面板领域的光刻胶需求随消费电子(手机、电视、车载屏幕)的更新迭代而持续增长;PCB 领域的光刻胶则伴随 5G、物联网等行业的发展稳步扩容。
1. 12 月 1 日:韩国《亚洲经济》、香港《亚洲时报》等多家国际媒体报道,日本已从12 月起(部分报道称从12 月中旬起)全面停止向中国出口光刻胶,重点管控 ArF、KrF 等高端光刻胶。
2. 11 月 28 日:在深交所互动平台官方宣布,公司部分光刻胶产品关键性能指标已实现对部分日系产品替代,已在 PCB、显示面板、半导体等领域客户中批量应用。
3. 11 月 20-21 日:八亿时空,在绍兴宣布国内首条百吨级 KrF 光刻胶树脂高自动化柔性 / 量产双产线已顺利出货,可覆盖绝大多数中低端芯片生产。
一、$南大光电(SZ300346)$ :国内唯一实现 ArF 光刻胶量产的企业,产品已通过中芯国际、长江存储 28nm 及以上制程验证。ArF 胶良率稳定在 90% 以上,2025 年产能达 1000 吨 / 年,占中芯国际国产 ArF 胶供应超 50%,价格比进口低 30%。线宽均匀性控制在 3nm 内,对比度达 12 以上,接近信越高端产品水平。配套布局电子特气及 MO 源等关键材料,形成产业链协同优势。
二、$彤程新材(SH603650)$ :通过控股北京科华 (96.33%) 和北旭电子,构建 "G 线 - I 线 - KrF-ArF" 全品类布局。KrF 光刻胶国内市占率超 50%,是该领域绝对龙头,良率从 85% 提升至 92%,缺陷密度 < 0.1 个 /cm²。ArF 光刻胶已通过 110nm 分辨率验证并实现量产,是国内唯一具备 EUV 技术储备的企业。通过收购实现光刻胶树脂 100% 自给,成本较进口降低 50%。覆盖中芯国际、华虹等 27 家 12 寸晶圆厂。
三、晶瑞电材:拥有覆盖 G 线、I 线、KrF、ArF 全系列光刻胶研发与量产能力,是国内少数完成全序列布局的企业。子公司苏州瑞红拥有 50 年光刻胶研发经验,G 线光刻胶国内市占率第一 (约 30%),i 线光刻胶稳定供应中芯国际等头部客户。拥有 5 台覆盖全部主流制程的光刻机,构建国内独一无二的 "终极验证平台"。KrF 光刻胶已量产,缺陷密度达国际领先水平;ArF 光刻胶实现小批量出货。
四、上海新阳:覆盖 G 线、I 线、KrF、ArF 全品类光刻胶,建成完整的研发合成、配制生产、质量管控平台。自研 ArF 胶通过验证,KrF 厚膜光刻胶已稳定量产。高研发投入 (近五年平均 17.9%) 支撑技术突破,累计投入超 8 亿元。自研树脂纯度达 99.999%,打破日本企业垄断。产品已供应国内多家芯片企业,70% 晶圆厂覆盖率,形成一体化解决方案能力。
五、容大感光:PCB 光刻胶领域绝对龙头,覆盖湿膜、干膜、阻焊油墨三大核心品类,国内市占率约 25%(第一),全球份额 15%。掌握树脂合成、光敏剂合成等 51 项发明专利。湿膜光刻胶国内市占率约 50%,产品应用于 5G 基站高频 PCB。半导体光刻胶领域实现 i 线光刻胶量产,0.15μm 线宽验证通过。自主研发 KrF 光刻胶分辨率达 0.15μm,价格比国外低 10-15%。已切入先进封装领域,适配 Chiplet 需求。
六、鼎龙股份:高端光刻胶供应链全流程国产化,开发出 KrF、ArF 专用树脂及关键材料,实现从单体、PAG 到树脂的自主可控。四大核心技术平台支撑产品开发,是国内唯一能同时生产晶圆、封装、显示三大类光刻胶的企业。OLED 无氟 PSPI 光刻胶国内独家量产,性能超日本竞品,已稳定供应 G6 代线。潜江基地一期 30 吨 / 年,二期规划 300 吨 / 年。通过 CMP 材料与主流晶圆厂建立深度合作,为光刻胶放量奠定基础。
七、$八亿时空(SH688181)$ :建成国内首条百吨级 KrF 光刻胶树脂高自动化柔性 / 量产双产线,实现高端树脂国产化。其 PHS 树脂金属杂质达 ppt 级、分散度小于 1.2,关键指标对标日本曹达且部分优于信越化学;阴离子树脂单价约 500 万元 / 吨,较日企同类产品有价格优势,可降光刻胶综合成本超 20%,毛利率超 70%。目前已供货南大光电等企业,形成 “树脂 - 光刻胶” 产业链闭环,成为国内光刻胶上游材料核心供应商。
八、强力新材:全球光刻胶光引发剂龙头,PCB 干膜光刻胶光引发剂 (HABI 系列) 全球市占率 65%,彩色光刻胶用肟酯类光引发剂全球份额 40%。国内唯一实现全系列光刻胶光引发剂国产化企业,产品纯度达 99.99%(半导体级)。累计申请专利超 200 项,掌握分子设计、高纯度合成工艺。光敏性聚酰亚胺 (PSPI) 材料通过华为升腾芯片验证,是国内唯一突破该技术的企业。已获长江存储、华虹认证,进入三星测试。
九、圣泉集团:光刻胶树脂领域 "独一档" 存在,是国内唯一可量产 KrF 光刻胶配套 PHS 树脂的企业。TFT 光刻胶用酚醛树脂国内市占率 70% 以上,光刻胶用酚醛树脂市占率约 20%。产品纯度达 ppb 级 (比矿泉水高 1000 倍),分辨率达 0.13μm,金属离子含量 < 1ppb,技术指标达国际水平。突破 EUV 光刻胶用树脂纯化技术,打破日本信越垄断。自产树脂带来显著成本优势,耐刻蚀时间≥2400 秒。
十、雅克科技:显示光刻胶全球领先,通过收购 LG 化学彩色光刻胶业务,RGB 光刻胶全球市占率第三 (15%),TFT 正胶出货量全球第一。拥有 30 种 ArF、34 种 KrF 光刻胶配方,覆盖 90-28nm 芯片需求。KrF 胶已量产供应中芯国际,ArF 干法胶进入多家 12 英寸晶圆厂测试。在光刻胶原材料领域 (树脂和单体) 打破国外垄断,是产业链上游关键供应商。电子特气与光刻胶业务协同,六氟化硫产能全球第一。

