光刻胶核心企业大盘点：国产崛起正当时

在半导体制造的庞大版图中，光刻胶无疑是那颗最为璀璨的明珠。作为决定芯片制造精度与良率的核心材料，光刻胶的重要性不言而喻，其技术门槛之高，宛如一座难以逾越的山峰。按照光源波长的不同，光刻胶可细分为 G 线、I 线、KRF、RF 乃至 EUV 等多个等级，每向更先进的制程迈进一小步，技术壁垒便以指数级的态势攀升。

当前，全球半导体产业竞争白热化，日本在高端光刻胶领域近乎垄断，占据了 90% 以上的市场份额。而我国光刻胶产业正处于从低端为主向高端突破的关键转型期，一批核心企业正奋力前行，成为产业发展的中流砥柱。

南大光电：ARF 光刻胶的国产先锋

南大光电堪称 ARF 光刻胶领域的国产领军者。它是国内唯一实现 28nm 制程 RF 光刻胶量产的企业，产品良率高达 99.7%，这一数据着实令人瞩目。其产品已成功通过中芯国际、长江存储等头部晶圆厂的严苛验证。位于宁波的产线，500 吨产能已顺利完成爬坡，