光刻机是芯片制造的核心设备,类似“精密投影仪”。它用紫外光把设计好的电路图案(刻在掩模板上),通过光学系统精确缩小并投影到涂有感光材料的硅片上,形成纳米级电路。这个过程决定了芯片上电路的精细程度和性能
技术突破:全国首台国产0.6纳米精度的电子束光刻机“羲之”投入市场,性能比肩国际水平,打破技术封锁
政策与需求驱动:国家将KrF/ArF光刻机纳入重点扶持目录,叠加全球半导体销售额大涨20%(2025年Q2数据),刺激国产替代加速
国产替代提速:上海微电子28纳米光刻机良率达85%,中科院1.7纳米刻蚀技术通过验收,推动产业链自主化进程
通俗来说,就是中国光刻机技术“卡脖子”难题正快速突破,政策+市场双利好引爆资本关注。
南京茂莱光学科技股份有限公司
问:南京茂莱光学科技股份有限公司在国产光刻机概念上有什么优势?
答:
技术优势:提供光