
从产业链协同和技术关联性角度,以下个股具备明确受益逻辑:
作为直接参与电子束光刻机应用测试的上市公司,其子公司宁波冠石半导体的光掩膜版制造项目已实现关键突破。2024 年 7 月首台电子束掩膜版光刻机交付后,2025 年 3 月即完成 55nm 和 40nm 光掩膜版的量产通线,设备交付周期较原计划提前 6 个月。当前项目处于送样验证期,2025 年 1-6 月已实现收入超 700 万元,验证进度领先行业平均水平。
其技术路径与 “羲之” 光刻机形成协同:光掩膜版是电子束光刻的核心耗材,冠石科技的 55nm 产品可直接适配 “羲之” 的 8nm 线宽工艺,而 40nm 产线的通线为未来量子芯片的更高精度需求奠定基础。此外,公司与华为海思等企业的接洽,进一步强化其在高端半导体材料领域的卡位优势。
作为电子束光刻机