$联瑞新材(SH688300)$ $佳先股份(BJ920489)$

在光刻胶赛道，半导体光刻胶无疑是这个赛道的皇冠，技术壁垒最高。而半导体光刻胶根据曝光波长的不同，半导体光刻胶可分为 G 线、I 线、KrF、ArF 和 EUV 五种类型。光刻胶曝光波长越短，则加工分辨率越高，能够形成更小尺寸和更精细的图案，目前最先进的光刻胶曝光波长已经达到了极紫外光波长范围为 EUV 光刻胶。

而在细分半导体光刻胶EUV又是皇冠上的皇冠，我国在此领域几乎没有突破。这个市场被美国陶氏杜邦、日本JSR、东京应化、富士电子、佳友化学这些公司垄断。因此近期这个板块因为会被卡脖子也被资本市场关注极大。

目前国内尚无上市公司实现EUV 成品光刻胶的销售，一些积极的方面是多家上市公司在 EUV 光刻胶的核心原材料（如单体、光致产酸剂等）环节实现了产品销售，为 EUV 光刻胶的国产化奠定基础

相关公司如下：

瑞联新材（68855