扬杰科技获得实用新型专利授权:“具有分裂栅结构的SiCMOSFET器件”

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 · 上海  

证券之星消息,根据天眼查APP数据显示扬杰科技(300373)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“具有分裂栅结构的SiCMOSFET器件”,专利申请号为CN202422576212.6,授权日为2025年9月16日。

专利摘要:具有分裂栅结构的SiC MOSFET器件,包括从下而上依次设置为N+衬底层、N‑外延层、栅氧化层、Poly层、隔离介质层和正面电极金属层;所述N‑外延层内设有:P‑body区,设有一对,分别从所述N‑外延层的顶面向下延伸;第一N+区,从所述P‑body区顶面向下延伸;第一P+区,从所述P‑body区顶面向下延伸,并与所述第一N+区的侧部连接;第二P+区,沿所述P‑body区的内侧向下延伸至P‑body区的下方,将所述P‑body区的内侧拐角处包裹;第二N+区,从所述第二P+区的顶部向下延伸,与所述P‑body区相连;所述栅氧化层的底面分别与第一N+区、P‑body区和第二N+区连接;所述Poly层设置在栅氧化层的顶面;本实用新型在一定程度上可提高器件的开关性能,降低开关损耗。

今年以来扬杰科技新获得专利授权76个,较去年同期增加了10.14%。结合公司2025年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了2.2亿元,同比增11.74%。

通过天眼查大数据分析,扬州扬杰电子科技股份有限公司共对外投资了28家企业,参与招投标项目188次;财产线索方面有商标信息6条,专利信息754条,著作权信息5条;此外企业还拥有行政许可233个。

数据来源:天眼查APP

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