光刻胶上市公司布局全景与产品竞争力深度解析

光刻胶作为半导体制造的“分子级画笔”，是光刻工艺中精准刻画纳米级电路的核心耗材，其技术壁垒高、供应链韧性要求严，直接决定芯片制程精度与良率。全球市场长期被日本东京应化、信越化学等巨头垄断，但随着国内半导体自主可控战略推进，A股光刻胶上市公司已形成多梯队布局，在成熟制程实现规模化替代，高端领域突破关键技术，产业竞争力持续跃升。本文将从行业格局、细分赛道布局、核心企业竞争力及发展趋势四大维度，全面解析光刻胶上市公司发展现状。
一、行业格局：全球垄断下的国产替代浪潮
（一）全球市场：日系主导高端，中国需求领航增长
全球光刻胶市场呈现“技术分层、巨头垄断”格局，东京应化、信越化学、JSR、富士胶片四大日本企业掌控全球90%以上高端光刻胶产能，在ArF、EUV等先进制程领域形成技术壁垒。从应用结构看，半导体光刻胶占全球市场规模的53%，是技术含量最高的细分领域；PCB光刻胶与面板光刻胶合计占比47%，虽