$汇通能源(SH600605)$
★光罩难点的具体表现
1.超精密制造挑战
基板平整度：日本信越化学的石英基板每平方厘米起伏需<0.3nm，相当于北京到上海的距离误差不超过1毫米；
镀膜一致性：EUV光罩的Mo/Si层需堆叠40层以上，单层厚度误差控制在原子级（±0.1nm）。
2.检测与修复复杂度
光罩缺陷检测需结合光学显微镜（检测>50nm缺陷）和电子束设备（检测<10nm缺陷）；
修复技术依赖聚焦离子束（FIB），需在纳米级定位并移除缺陷，成功率要求>99.9%。
3.产业链依赖性强
高端光罩基板被日本豪雅（Hoya）、信越化学垄断，占全球73%市场份额；
EUV光罩需与ASML光刻机深度适配，技术生态封闭（如无掩膜接触式曝光技术）。
★国产化进展与突破方向
中国光罩产业正加速追赶，但与国际巨头仍存在代际差距：
成熟制程：龙图光罩、清溢光电等已实现130nm光罩量产，套刻精度±20nm；
先进制程：28nm以下光罩受限于设备禁运（如电子束光刻机），需突破多重曝光技术；
材料替代：国产高纯石英基板（如凯盛科技）已进入验证阶段，但良率仅60%-70%（日本达95%）。
光罩的攻克难度在光刻机系统中位列第二。加油中国科学家们。