作为早在2024年就系统开展CPO、OIO研究的人,最近一个多月,光模块圈围绕NPO和CPO的争吵实在让人看不下去——各方各执一词,吵来吵去却始终没触及核心。索性另辟蹊径,把目光投向产业链上游,聚焦在有源光芯片的三大核心体系:InP(磷化铟)、SiPhi(硅光子)、TFLN(薄膜铌酸锂)。这三大体系,恰恰是对光互联xPO形态之争完全免疫的存在,也是AI光互联真正的“根基”所在。
如今,市场已经形成一个共识:对于AI光互联而言,无论NPO还是CPO,InP芯片是不可或缺的核心赛道,其独特价值无人能替代,InP芯片都是绕不开的关键环节。
在和粉丝的交流互动中,很多朋友反复提醒我一个关键点:大家讨论InP芯片时,往往忽略了更上游的环节——原材料和InP衬底,这才是决定整个InP行业发展速度、发展高度的核心卡点。顺着这个思路,我沉下心追溯调查了一个星期,梳理出一些关键信息和思考,今天和大家好好聊聊,也分享下我的核心判断。
先说结论,也是我这一周调查最核心的收获:InP产业链上下游的中国企业,即将迎来远优于国外同行的历史性机遇,这份机遇,既有技术突破的支撑,更有产业链闭环和政策环境的双重加持,确定性极强。
很多人仍有固有印象,认为国内在高端光芯片领域“卡脖子”,但InP赛道的实际情况,早已超出多数人的预期——从高端到中低端,国内企业均已实现突破,不存在明显短板,部分领域甚至实现了反超。
1. 高端InP芯片:与国际巨头同台竞技,部分领域实现领先
高端InP芯片的核心应用场景,集中在EML(电吸收调制激光器)以及NPO/CPO模块所需的大功率CW-DFB(连续波分布式反馈激光器),这两个领域长期被海外巨头垄断。但目前,东山精密(旗下索尔思)已经实现关键突破,技术水平完全与国际巨头站在同一起跑线,打破了海外垄断格局。
更值得关注的是,东山精密在单片多通道InP PIC(光子集成芯片)领域的表现,更是凸显了国内企业的技术领先性——其集成度已经超越海外同行,这意味着在高算力、高密度传输场景下,东山精密能够提供更高效、更具成本优势的解决方案,为后续大规模应用奠定了坚实基础。要知道,PIC集成度是AI光互联规模化落地的核心瓶颈之一,这一突破的意义不言而喻。
2. 中低端InP芯片:实现群体突破,产能规模领先
中低端InP芯片主要应用于硅光模块,以75mw、100mw CW-DFB芯片为核心,这一领域的突破,标志着国内InP芯片实现了规模化、商业化的落地。以源杰科技为代表的国内企业,在中际旭创的带领下,已经实现了这类芯片的群体突破,不再依赖进口。
更关键的是,国内企业的产能已经跟上了市场需求——永鼎股份、长光华芯等企业,均已具备年出货量千万级的能力,能够稳定供应下游硅光模块企业,彻底解决了“有技术、无产能”的尴尬,也为国内InP产业链的闭环提供了产能支撑。
3. InP衬底:卡点突破,国产供应能力持续提升
InP衬底是InP芯片的核心原材料,也是此前被认为的“卡点”之一。但目前,国内企业已经在这一领域实现关键突破,云南锗业、北京通美等企业,已经能够稳定量产InP衬底,满足下游芯片企业的需求。
从行业供给来看,目前国内InP衬底新扩建产能,主要由北京通美和云南锗业贡献,随着两家企业产能的逐步释放,国内InP衬底的自给率将持续提升,彻底打破海外对InP衬底的垄断,为下游芯片企业提供稳定、安全的供应链保障。需要特别说明的是,北京通美作为美国AXT公司(纳斯达克上市,股票代码AXTI)的核心运营主体,其生产、研发均位于中国大陆,本质上是国内InP衬底领域的核心力量之一。
21日晚间,纳斯达克上市的AXTI发布财报后,电话会议中披露了很多InP衬底和上游原材料领域的关键细节,也间接印证了我对国内InP企业机遇的判断。
先回顾一下全球InP衬底的市场格局:磷化铟衬底是全球半导体材料领域技术壁垒最高的环节之一,长期以来被双寡头垄断——日本住友电工占据约50%的市场份额,美国AXT(核心资产为北京通美)占据约35%的市场份额,两者合计占据全球85%以上的市场份额,表面上看,这是一个牢不可破的垄断格局,国内企业很难突围。
但这个看似稳固的垄断格局,存在一个致命的缺陷:无论是日本住友电工,还是美国AXT,都不生产InP衬底所需的核心原材料,高度依赖从中国进口高纯度金属铟和锗。根据公开数据显示,日本半导体产业对中国铟、镓的依赖度超过85%,对锗的依赖度更是接近100%;更致命的是,日本军工领域的43个细分技术参数项中,有68%依赖中国进口的相关材料,其中就包括铟、锗等关键元素。
随着中国加强两用物项出口管制(2026年度《两用物项和技术进出口许可证管理目录》已明确将铟、镓、锗等战略矿产物项纳入管制),这种高度依赖的弊端彻底暴露——日本住友电工面临的不是原材料成本上涨的问题,而是“有钱买不到”的物理性缺货困境,其InP衬底的生产将受到直接冲击,产能必然出现收缩。
而AXTI在电话会议中也明确透露,目前其大量InP相关产品堆积在仓库中,无法正常出口,核心原因就是无法获得中国的出口许可证——作为核心运营主体位于中国的企业,其产品出口必然受到国内出口管制政策的约束,这也意味着,AXT的海外供应能力将大幅下降,全球InP衬底的供应格局将出现巨大缺口。
反观国内,中国已经构建了从上游原材料(铟、锗等)、InP衬底,到InP芯片、下游光模块的完整产业链闭环体系,完全不受此次出口管制政策的影响。相反,海外的几大巨头,无论是InP衬底领域的住友电工、AXT,还是下游光芯片领域的Lumentum、Coherent,都被卡在InP衬底及锗、镓、铟等稀有元素的供应上,产能扩张和稳定供应将受到严重制约。(我们每次拿出稀土大绑,T哥立马怂)。
这种格局下,国内InP上下游企业将直接受益——海外产能缺口,将由国内企业填补,国内企业不仅能够占据国内市场,更有机会借助此次机遇,切入全球供应链,抢占海外市场份额,迎来历史性的发展窗口。
聊完了整个InP赛道的机遇,我们聚焦到具体企业——东山精密。作为国内高端InP芯片领域的龙头企业,东山精密凭借技术先发优势,以及国产供应链的保驾护航,启动了大规模扩产计划,这也引发了市场的广泛关注和争议。
市场争议的核心的是:东山精密计划从2025年6月的300万颗/月,提升到2027年一季度的2800万颗/月,一年半时间,产能提升接近8倍;而同期,全球InP芯片龙头Lumentum的产能提升预期仅为40%。如此激进的扩产计划,到底是否可行?市场上很多人持怀疑态度,今天我从InP衬底的角度,给大家做一个量化分析,聊聊我的判断。
要判断东山精密扩产是否可行,核心是判断“上游InP衬底的供应能否跟上下游芯片的产能扩张”——毕竟,InP衬底是InP芯片的核心原材料,衬底供应不足,再激进的扩产计划也只能是“空中楼阁”。我们从两个维度展开分析:
第一,单颗InP芯片对衬底的需求量测算。通常情况下,1片4英寸InP衬底,可生产约800-1000颗CW-DFB芯片(具体数量取决于芯片尺寸和良率);考虑到东山精密主要生产高端InP芯片(EML、大功率CW-DFB、单片多通道PIC),芯片尺寸相对较大,良率处于行业领先水平(参考其技术优势),我们保守测算,1片4英寸InP衬底可生产约800颗InP芯片。
第二,东山精密扩产后的衬底需求量测算。2027年一季度,东山精密InP芯片产能为2800万颗/月,全年产能约为3.36亿颗(按满产测算),公司计划实现3亿颗的产量目标,对应衬底需求量为:3亿颗 ÷ 800颗/片 = 37.5万片/年(4英寸InP衬底)。
第三,国内InP衬底的供应能力测算。目前,国内InP衬底的核心供应商为北京通美和云南锗业,两者合计产能约为20万片/年(4英寸);随着两家企业新扩建产能的逐步释放,预计到2026年底,两者合计产能将提升至40万片/年以上,完全能够覆盖东山精密37.5万片/年的衬底需求量。另外,东山精密在海外的工厂,也能够分享海外产能。
除此之外,还有两个关键因素支撑东山精密的扩产计划:一是东山精密与国内InP衬底企业(尤其是北京通美)已经建立了深度合作关系,能够优先获得衬底供应,避免出现“卡脖子”的情况;二是东山精密的技术优势能够保障芯片良率稳定提升,随着产能规模的扩大,规模效应将逐步显现,芯片生产成本将持续下降,进一步提升其市场竞争力——要知道,东山精密在单片多通道InP PIC领域的集成度领先海外,能够有效提升衬底的利用率,间接降低衬底的单位消耗。
综合来看,从InP衬底的供应能力来看,东山精密2027年实现3亿颗InP芯片的产量目标,可行性较高,2亿左右会更合理。当然,这一目标的实现,也依赖于下游AI光互联需求的持续爆发,以及公司产能爬坡的顺利推进,后续我们可以持续跟踪这两个核心变量。
结合InP赛道的历史性机遇与国内产业链闭环优势,相关核心企业的投资价值值得重点关注,覆盖InP芯片、下游光模块全产业链,具体来看:
东山精密,作为高端InP芯片龙头,凭借PIC集成度领先优势和激进扩产计划,有望充分享受高端芯片国产替代红利;
源杰科技、永鼎股份、长光华芯,聚焦中低端InP芯片领域,已实现技术突破和规模化量产;
中际旭创、新易盛作,为下游光模块龙头,其高端光模块产品高度依赖InP芯片,在国内InP芯片产能持续释放、供应链安全可控的支撑下,进一步巩固全球市场地位。
风险警示:InP赛道虽有机遇,但仍面临技术迭代、产能过剩、政策变动、企业经营及原材料价格波动等相关风险,需理性看待、谨慎布局。