半导体国产化提速，光刻胶核心材料替代空间巨大，哪些企业受益？

9月17日，光刻机（胶）概念开盘走强，永新光学（603297.SH）竞价一字涨停，波长光电（301421.SZ）、凯美特气（002549.SZ）开盘后快速拉升至涨停。

东海证券在研报中指出，芯片贸易管控加剧下，或有利于我国国产半导体、AI芯片产业链迎来“政策保护+技术突破+国产替代”的三重红利期，后续可关注半导体材料企业。

光刻胶国产化进程提速

光刻胶是光刻工艺中最核心的耗材，其性能决定着光刻质量。光刻胶是微电子领域微细图形加工核心上游材料，也是精细化工技术壁垒最高的材料。光刻胶所在的产业链覆盖范围非常广泛，从上游基础化工材料行业、精细化学品行业到中游光刻胶制备，到下游PCB、面板、半导体产业，再到电子等应用终端。

目前，全球光刻胶供给高度集中，海外龙头已实现高端制程量产，而我国光刻胶起步较晚，目前以中低端产品为主，高端领域正在逐步突破过程中，国产替代正在持续进行。

相关数据显示，截至2024年，