联合化学入股的卓光芮和罡景光学技术成分如何
1. 罡景光学的光学技术储备
全流程自主能力：掌握光学系统设计、选材、装调、测试全链条技术，具备高精度物镜和照明系统的量产能力，已实现光伏光刻机光学部件出货（分辨率5μm，支持8000片/小时产能）。
分层技术路线：
高端产品：应用于前道KrF/i-line光刻机，分辨率达110nm，预计2025年Q4交付；
中端产品：面向封装光刻机，支持＞120mm×120mm超大视场，适配先进封装需求，预计2026年Q1交付；
低端产品：聚焦光伏光刻机，已实现20套小批量出货。
2. 卓光芮的整机集成能力
千级步骤技术整合：需攻克光学投影系统（微缩精度）、对准系统（纳米级套刻精度）、晶圆台（高速运动稳定性）、光源（紫外波段稳定性）及控制系统五大核心模块。
之前投资公告里也表明了这一点，在技术方面，标的公司（指卓光芮）具备16个核心子系统的自研能力，尤其对于光学系统，标的公司具备从系统设计、光学选材、光学装调、光学测试等全流程研发经验，且已经实现产品销售; 对于整机系统设计，卓光芮掌握基于模型开发的系统工程技术，并成功实施；对于投影式曝光机整机系统集成，卓光芮了解并掌握全流程千余个细分步骤，具备实操经验 。
创始人技术背景：高安曾任国际光刻设备龙头高管，团队具备全流程实操经验。原ASML研发总监，荷兰读博后进入阿斯麦，参与DUV和EUV光刻机相关工作（EUV中负责掩膜板无污染检测等，DUV中负责硅片对准传感器等）；2018年底回国参与02专项研发，承担02专项中28nm节点浸没式光刻机产品研发项目，担任产品技术总工、前道系统集成部经理。
二、市场需求及政策支持
1. 国产替代急迫性
2023年我国半导体曝光设备产量仅124台，需求量达727台，自给率不足17%，卓光芮若突破中低端设备，将填补封装、光伏领域空白。
2. 政策强力支持
投影式曝光机被列为“新质生产力”代表，契合国家半导体设备专项政策导向，研发资金获取及客户导入更具优势。
三、产品布局与商业化路径
罡景光学产品分层商业化进展
短时间内，重点关注罡景光学在部件领域的先足优势，光伏设备部件确定性较高，2025年已经实现5000万预收款验证需求；中高端产品需观察交付良率及客户验证进度。
长远来看，重点关注卓光芮两大重要时间节点：
① 2025Q4高端光学系统交付质量（反映纳米级加工能力）；
② 2026年原型机发布。