茂莱光学，对应光刻机核心技术环节？壁垒？（一）

光刻机，半导体设备价值之冠军，国产替代迎来奇点时刻！

光刻机系统，三大核心子系统及对应功能：光源系统：能量供给；光学系统：图形成像；工作台系统：精准对位。

茂莱光学：自2024年924以来，高点翻了约7倍：股价从70到490。对应光刻机什么核心环节？

一、和光刻机关联业务，具体是什么板块业务？

茂莱光学其中最重要的主营业务之一：半导体

半导体业务，2015年3季报营业收入占比58.80% ，营收同比增62.19%；进入放量周期：部分产品已从研发样品阶段迈入批量生产阶段。

在光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术等领域已实现产业化。

国内半导体产业链协同发展，设备厂商推进国产替代；海外市场需求持续旺盛。

二、在光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术, 涉及光刻机中的光源系统？

这项技术主要服务于光刻机的“镜头”（曝光物镜），与“光源系统”是协同工作但技术上相对独立的两个核心部分。

可以这样理解：在光刻机中，光源系统是发出特定波长“光”的“发动机”，而曝光物镜是塑造并引导这道光，将其精准投射到硅片上的“超级镜头”。

拆解两者的关系与区别：

核心区别：分工明确，技术独立

三、茂莱光学的技术究竟做什么？有壁垒？

当提到茂莱的“光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术”时，主要是指以下环节：

超精密加工与抛光：制造物镜所需的透镜/反射镜，其表面平整度要求极高，通常要达到纳米级（<1nm） 甚至亚纳米级。这好比要求一个北京市大小的面积内，最高的山峰和最深的山谷落差不能超过几毫米。

高精度镀膜：在光学元件表面镀上特殊的薄膜，以精确控制光的反射、透射等特性，确保光路效率和成像质量。

精密测量与检测：拥有测量这些纳米级精度元件的尖端设备和技术，是能够加工的前提。

这些元件是物镜的“砖瓦”，而物镜是光刻机决定成像精度和分辨率的“心脏”。茂莱正是这类顶级“砖瓦”的供应商之一。

两者的协同关系：

虽然技术独立，但两者在光刻机中密不可分：

光源决定“用什么刻”：例如，从KrF（248nm）到ArF（193nm），再到现在的EUV（13.5nm），波长越短，能刻出的电路线宽就越细。每次光源的升级，都对着物镜提出颠覆性的更高要求。

物镜决定“刻得多好”：物镜必须能完美“驾驭”新光源的波长，将巨大的电路设计图微缩数万倍后，以近乎零失真、零畸变的精度“雕刻”在硅片上。EUV时代，物镜已从透镜变为多层镀膜的反射镜系统，技术难度呈指数级上升。

结论：

茂莱的这项技术不直接涉及光源系统的制造（如产生EUV光的激光等离子体源）。

但这项技术加工出的超精密光学元件，是构建能匹配新一代光源（尤其是EUV）的曝光物镜的绝对基础。

茂莱的核心价值在于，它是全球少数能提供这种等级光学元件加工能力的企业，从而嵌入了高端光刻机（包括EUV光刻机）的供应链，是“国产替代”和全球竞争中的关键一环。