新莱应材，受益于，台积电的设备扩张，主要在于GAA技术，台积电表示，在2NM米全面引进，GAA技术，新莱应材其核心技术产品为GAA工艺提供关键配套： AdvanTorr真空系统：泄漏率低至10^-9Pa·m/s，能满足GAA工艺对超高真空环境的要求，已通过ASML、应用材料等国际巨头认证。 NanoPure气体管路系统：可将气体杂质控制在ppt级别（万亿分之一），为GAA工艺的精准气体输送提供保障，打破了美国杜邦、日本VAT的长期垄断。 📢 官方表态 在2024年6月的投资者关系平台上，新莱应材明确表示：公司的泛半导体真空产品（AdvanTorr品牌）和气体产品（NanoPure品牌），可应用到包括GAA工艺在内的泛半导体产业链上下游中。$新莱应材(SZ300260)$