拓荆科技

拓荆科技是国内高端半导体设备制造商，专注于薄膜沉积设备和先进键合设备，其产品是芯片制造的核心环节。

核心业务板块

业务领域:薄膜沉积设备 主要产品:PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等 技术/市场地位 :国内唯一实现PECVD、SACVD、HDPCVD产业化应用的企业 2025年上半年进展:收入19.54亿元，同比增长54.25%；ALD设备业务增长强劲，Q2单季收入超2024年全年。

业务领域:三维集成/先进键合设备 主要产品:晶圆对晶圆混合键合设备、芯片对晶圆键合设备及配套量检测设备 技术/市场地位 :国内键合设备技术领先，部分产品为国内唯一应用在产线上的同类型设备 2025年上半年进展:晶圆对晶圆混合键合设备获得重复订单；芯片对晶圆混合键合设备已出货至客户端验证；

收入分析与市场前景

营收增长强劲：2025年上半年公司实现营业收入19.54亿元，同比增长54.25%。增长主要得益于产品通过客户认证，进入规模化量产阶段。

盈利能力改善：上半年归母净利润为0.94亿元，同比下降26.96%。这主要受第一季度新产品验证成本高企拖累。值得注意的是，第二季度单季归母净利润达2.41亿元，环比增长264.16%，毛利率已显著改善。

在手订单充沛：截至2025年上半年末，公司合同负债达45.36亿元，较年初激增52.07%，预示未来收入潜力巨大。

市场空间广阔：据SEMI统计，2025年全球半导体设备销售额预计将持续增长，其中薄膜沉积设备市场规模约244亿美元，为公司提供了广阔的发展空间。

公司优势与竞争对手

核心优势：技术领先：在薄膜沉积和混合键合设备领域拥有深厚的技术积累和先发优势。客户认可：产品已在国内主要晶圆厂批量应用，并成功获得重复订单。 国产替代驱动：深度受益于半导体设备国产化趋势。

主要竞争对手：全球市场主要由国际巨头主导，如应用材料（AMAT）、泛林半导体（Lam）、东京电子（TEL）在CVD领域，以及EV Group、东京电子等在先进键合设备领域。

总结

总体来看，拓荆科技作为国产半导体设备龙头，正处于高速成长通道。其核心看点在于： 主营业务技术壁垒高，特别是在混合键合设备这一前沿领域已占据有利位置。 第二季度业绩证明了其强大的盈利修复能力，打消了市场因一季度业绩产生的疑虑。 充沛的在手订单和广阔的国产替代空间，为其未来持续增长提供了坚实基础。