$和远气体(SZ002971)$ $三孚股份(SH603938)$ $新安股份(SH600596)$

二氯二氢硅主要用于芯片制造过程中的薄膜沉积（如外延膜、碳化硅膜、氮化硅膜、氧化硅膜和多晶硅膜等），也可用于合成硅基系列前驱体和聚硅氮烷等。国内目前拥有规模化产能的上市企业为三孚股份（现有500吨产能）、新安股份（在建1000吨产能，预计Q2投产）。当前日本对国内售价约20万/吨，相较于5年前价格已腰斩，日本反垄断调查后，国内价格有望向上修复，国内企业同时有望快速实现进口替代。