锦华新材：国内唯一芯片清洗剂，打破垄断，比肩光刻胶

技术唯一性：打破海外垄断，填补国内空白

-高端芯片清洗剂的国产独家布局

JH-2是一种高纯度羟胺水溶液，主要用于芯片制造中铝制程干法刻蚀后的清洗环节，尤其在亚微米（0.35μm以下）及先进制程（可满足14nm以下）芯片中不可或缺。目前该产品全球市场由德国巴斯夫垄断，国内尚无规模化生产企业，锦华新材的500吨/年中试项目已于2024年试生产，计划2025年投产，2026年扩产至5000吨（招股材料公开披露数字），成为国内唯一可实现量产的企业。

-性能对标国际，成本优势显著

公司JH-2产品纯度达99.99%，满足先进制程清洗要求，且成本较进口产品低30%以上（巴斯夫价格37万/吨且到货慢，公司产品价格25万/吨）。其独创的“肟-肟基硅烷-羟胺盐”绿色循环产业链技术，原子利用率超95%，三废排放减少70%，兼具环保与经济效益。

市场稀缺性：半导体清洗需求刚性增长，国产替代空间广阔

-清洗剂市场持续扩容

芯片制造中清洗步骤占比高达30%以上，是核心工艺环节。据QY Research预测，全球干法刻蚀后清洗剂市场规模将从2023年的2.06亿美元增至2030年的3.78亿美元（CAGR 9.06%），而中国集成电路产量同期将以8.87%的增速增长。JH-2作为主流清洗剂，需求与晶圆产能扩张直接绑定。

- 国产替代紧迫性堪比光刻胶

与光刻胶类似，高端芯片清洗剂长期被海外企业垄断，国产化率极低。在半导体供应链自主可控政策推动下，海外巴斯夫工厂生产问题到货持续延期，JH-2的替代需求迫切，预计2027年单产品年营收可达12.5亿元，高壁垒产品40%净利率利润达5亿，成为公司主要利润贡献产品，再造2个锦华新材，公司将从化工企业彻底蜕变为国产芯片清洗剂龙头，估值重估，业绩增长带来市值双击。

三、成长确定性：估值安全边际高，板块热度加持

- 低估值提供安全垫

公司发行价18.15元/股，发行市盈率仅11.52倍，显著低于行业平均PE 27.57倍及可比公司均值16.96-36倍。若PE提升至行业平均水平，对应2027年8e利润，化工3亿利润给25倍估值75亿元，半导体给50倍估值250亿，合计325亿元，当前估值折价空间巨大

-半导体板块景气度加持

近期半导体概念股持续走强，市场对国产替代材料关注度升温。公司作为稀缺的芯片清洗剂标的，有望承接板块资金溢出效应。叠加北交所新股流通盘小（无老股）、国资背景（巨化集团控股82.49%）、和中巨芯直接合作等属性，资金博弈空间显著。

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