$宝光股份(SH600379)$ 关于光刻机真空腔体的定义及其价值占比分析如下：
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一、光刻机真空腔体的定义与功能
1. 基本定义：
光刻机真空腔体是光刻机内部的一个核心精密部件，通常由金属化陶瓷材料制成，用于在光刻过程中维持超高真空环境。
2. 核心功能：
- 避免光路散射：极紫外光（EUV）等短波长光源在空气中会被吸收和散射，必须在真空环境中才能有效传输。
- 防止污染：真空环境避免尘埃、杂质污染晶圆和光学系统，保障光刻精度。
- 支撑精密结构：腔体需集成机械臂、传感器、冷却系统等，确保晶圆定位、温度控制等功能的稳定性。
- 文档依据：«《工业明珠灿若星河，光刻机国产化行则将至20250827.docx》明确指出：
"EUV光易被吸收，故整个光路及从光源至晶圆的相关光反应都必须在真空室内进行。"
《汇成真空近况交流纪要20250718》提到：
"真空腔体为光刻机曝光工艺提供高真