炬光科技V型槽阵列的资料整理-炬光投资备忘2025-8-10

这次小作文的绯闻主角是 V型槽阵列（V groove array ）。绯闻是台积电COUPLE 方案中的HiMAX 的WLO 适合做单个 元件 ，不适合做 组件，如微透镜阵列和 V型槽阵列 array ，这种技术导致HIMAX给COUPLE提供的耦合 解决方案的良率大大降低，成本反而相应的大幅提升。

如下图所示：V 型槽链接CPO中微透镜阵列和光纤阵列（FAU），功能是实现在机械定位上与光纤阵列的高精度对准，这种组件尤其适用于高稳定性和低损耗光连接的场景（如CPO、光模块、光纤通信、传感系统等）。

V型槽阵列的制造工艺是光刻-离子刻蚀法（RIE），同时炬光还讲 全球独步的晶圆级同步结构化技术与RIE 进行协同（该资料来自炬光董秘的投资者交流）。HIMAX所掌握的微纳光学制造工艺中，主要是纳米压印技术，，这种技术主要精度低于RIE，但优势在于比RIE成本底。所以从 技术层面，HIMAX 的产品