我觉得asml给的不增长指引一点也不意外，大部分人满脑子就觉得先进制程要euv，但是实际上参考进入1nm以下的逻辑以及dram进入1伽马制程以后的3D结构的技术路线。
Euv的光罩使用量会出现和之前不同的一个A字形下降，甚至有些观点认为可以完全舍弃Euv。
so 不要满脑子光刻机。