南大光电，熬穿十年，光刻胶自主撕开日本垄断！

"再往里投一分钱，都是打水漂！"南大光电团队在黑暗隧道里挖了十年，终于让国产ArF光刻胶撕开日本垄断的口子。这背后是无数个日夜的死磕——博士错过孩子出生，工程师们擦着眼泪看第一批合格产品下线。没有永远翻不过去的大山，只要肯一镐一镐地凿。

美国在去年10月再次抬高门槛，把DUV的限制从7纳米收紧到14纳米，连中阶机型1980i也得审批才能出口。

荷兰和日本也同步加码，试图用这堵“技术高墙”隔绝中国企业的所有出路。

国际巨头的算盘打得响：只要堵死中国，自己就能高枕无忧。

可现实，偏偏没按这个剧本走。

中国半导体企业接连实现关键突破。$南大光电(SZ300346)$ $同益股份(SZ300538)$

9月11日，南大光电正式官宣，两款高性能ArF光刻胶进入批量验证。

南大光电的ArF光刻胶技术已实现量产突破，覆盖14纳米至90纳米芯片制造节点，成为国产高端光刻胶的企业。

技术突破 2025年9月，南大光电宣布两款ArF光刻胶进入批量验证阶段，核心原料完全本土化，适用于193纳米波长工艺 。 2024年进入小规模量产，月出货量达数百升，2025年5月获中芯国际百吨级订单，实现首次大规模商用 。 市场表现 2024年销售额突破千万元，2025年上半年国内市场份额达20%-30% 。 中国光刻胶自给率从2024年的5%提升至2025年的15%，预计全年降低30%进口需求 。 产业链影响 推动国产替代，日本JSR公司对华销量下滑12% 。 与上海微电子等企业协同，加速DUV光刻机国产化进程 。