【aZIF薄膜技术突破与光刻胶产业新机遇】

🌈据介绍，近年来，aZIF薄膜被用作先进光刻胶。

一、技术突破：aZIF薄膜制备实现精准可控

近年来，非晶态沸石咪唑酯骨架（aZIF）薄膜因其在极紫外（EUV）和电子束光刻（EBL）中的高分辨率特性，成为下一代光刻胶的核心材料。华东理工大学庄黎伟团队联合国际研究机构，提出间歇性旋涂化学液相沉积法，攻克了传统工艺依赖试错、薄膜厚度与均匀性难以控制的技术瓶颈。该方法通过超稀释前驱体溶液的快速混合，在硅片上实现了几纳米至数百纳米厚度的精准调控，并成功通过电子束光刻和超越EUV光刻（6.x nm波长）验证。

技术亮点：

1. 动态混合与计算流体力学（CFD）模拟：通过3D打印微反应器实现前驱体即时混合，结合CFD模型量化沉积速率和扩散系数，为晶圆级（8/12英寸）均匀涂覆提供理论支撑。

2. 多材料兼容性：成功制备锌/2-甲基咪唑、钴/2-甲基咪唑等多种aZIF薄膜，兼具正型与负型光刻胶性能，适配不同刻蚀需求。

3. 产业化潜力：该方法可适配现有旋涂设备，降低规模化生产成本，为国产光刻胶替代提供技术底座。

二、产业链梳理：光刻胶国产化加速，8只绩优股迎布局窗口

在aZIF薄膜技术突破的催化下，国内光刻胶产业链加速国产替代。结合技术储备、商业化进度及业绩表现，以下公司值得关注：

1. 上海新阳（300236）

- 核心优势：KrF光刻胶已批量销售，ArF浸没式光刻胶获订单，覆盖中芯国际等头部客户；半导体材料业务营收占比超40%，毛利率突破40%。

- 催化因素：aZIF薄膜技术或与其现有光刻胶产线形成协同，拓展高端制程应用。

2. 东材科技（601208）

- 战略布局：合资成立成都东凯芯，切入光刻胶上游单体/树脂合成，试产阶段已获进展；年内涨幅超170%，机构看好材料端自主可控逻辑。

- 技术协同：上游材料自主化可降低aZIF薄膜量产成本，提升供应链安全性。

3. 鼎龙股份（300054）

- 产品矩阵：无氟光敏聚酰亚胺（PFAS Free PSPI）、黑色光刻胶等产品验证推进；半导体材料收入占比提升至25%，平台化布局分散风险。

- 增长潜力：先进封装材料需求增长，叠加光刻胶新品放量，业绩弹性显著。

4. 联合化学（301209）

- 场景打通：战略投资投影曝光机企业卓光芮，强化“材料+设备”协同能力；颜料业务提供稳定现金流，年内涨幅超468%。

- 市场空间：光刻机配套设备国产化加速，公司有望抢占增量市场。

5. 南大光电（300346）

- 技术壁垒：ArF光刻胶通过客户认证，量产在即；MO源业务稳定贡献利润，形成双轮驱动。

- 政策红利：受益于半导体材料国产化政策扶持，估值修复空间大。

6. 聚光科技（300203）

- 配套设备：布局光刻胶检测设备及光源，与中芯国际深化合作；机构预测2025年净利润增速超20%。

- 技术卡位：光刻工艺关键设备国产化替代需求迫切，公司技术储备深厚。

7. 联泓新科（003022）

- 材料突破：光刻胶树脂材料研发取得进展，绑定国内晶圆厂；估值处于低位，修复潜力显著。

- 产能释放：新产线投产后，成本优势将进一步凸显。

8. 久日新材（688199）

- 业务延伸：光引发剂龙头向光刻胶领域拓展，技术协同性强；年内涨幅超60%，新材料平台逐步成型。

- 需求拉动：下游晶圆厂扩产带动光刻胶需求，公司有望受益。

三、风险提示

- 技术验证周期：aZIF薄膜量产需通过客户认证及工艺适配，存在不确定性。

- 国际竞争：东京应化、JSR等国际巨头仍主导高端光刻胶市场，国产替代需持续突破。

- 政策与资本波动：半导体行业周期性波动可能影响企业研发投入及产能扩张节奏。

结语

aZIF薄膜技术的突破为国产光刻胶打开了新的技术路径，叠加晶圆厂扩产与政策支持，产业链有望迎来黄金发展期。投资者可重点关注技术领先、业绩稳健且估值合理的标的，如上海新阳、东材科技等，把握国产替代与产业升级的双重红利。

注：本文内容基于公开信息整理，不构成投资建议；股市有风险，入市需谨慎。25.09.27