国力电子：公司的真空电容器产品应用于等离子体刻蚀、增强气相沉积、气相清洗等设备
证券日报
· 北京
证券日报网讯 3月2日，国力电子在互动平台回答投资者提问时表示，在半导体应用领域，公司的真空电容器产品主要竞争对手确实包括日本企业，具体为株式会社明电舍（日本明电舍股份有限公司）。公司的真空电容器产品应用于等离子体刻蚀、增强气相沉积、气相清洗等设备。
（编辑 丛可心）
证券日报网讯 3月2日，国力电子在互动平台回答投资者提问时表示，在半导体应用领域，公司的真空电容器产品主要竞争对手确实包括日本企业，具体为株式会社明电舍（日本明电舍股份有限公司）。公司的真空电容器产品应用于等离子体刻蚀、增强气相沉积、气相清洗等设备。
（编辑 丛可心）