光刻机——全球公认为“半导体工业皇冠上的明珠”赛道，即将爆发，核心概念股名单如下！

正在2025年岁末迎来“政策＋业绩＋资金”的三级点火。大国科技博弈进入深水区，外部管制越收紧，内部替代越狂热；国产28nm、14nm线设备验证密集推进，材料端订单开始放量。种种信号都在指向同一条高赔率主线——光刻机板块。它不是单纯的情绪博弈，而是“0→1”硬核突破带来的估值重塑。短期看催化，中期看订单，长期看空间，眼下正是“喧嚣之前”的最佳上车窗口。
2025年11-12月，光刻机与光刻胶领域接连出现“技术突破”与“供应链封锁”两条主线，核心动态如下。
一、为什么必须“吹”光刻机？

技术唯一性
光刻机决定制程天花板，是晶圆厂扩产的“卡脖子”最短板。只要国产机能通过验证，后续整条12英寸产线都必须围绕它做配套——一台设备撬动了十倍材料、服务与升级市场。

政策最高优先级
大基金三期明确“设备材料专项”；上海、深圳两地政府将光刻机列为“头号攻关清单”，补贴比例高达30%。行政力量第一次把“资本开支”变成“