冲破技术垄断，光刻胶小巨人，高深莫测！

2025年下半年，我国光刻技术进入黄金发展期！

7月，清华大学开发出一种基于聚碲氧烷的新型EUV光刻胶；

8月，我国研制出首台电子束光刻机“羲之”；

9月，上海微电子首次公开亮相了EUV极紫外光刻机参数图；

就在10月26日，北京大学首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，光刻技术再次迎来重大突破。

得益于这股技术突破的浪潮，南大光电、彤程新材、鼎龙股份、上海新阳等企业有望加速国产替代。

不过，技术的飞跃必须直面产业化的挑战：国内光刻胶尚未规模化。

在此阶段，多路线布局似乎是抢占红利的高效策略，彤程新材、晶瑞电材的出货便是明证。

同行普遍选择多路线策略时，鼎龙股份却独辟蹊径只深耕KrF、ArF光刻胶。

那么，在多元布局看似更占优的产业阶段，鼎龙股份为何一枝独秀？

占据价值高地，冲刺订单

光刻是整个半导体制造过程中耗时最长、难度最大的工艺，成本约占芯片生产成本的1/3，耗