打破光刻垄断：奥普光电如何从“跟跑”到“领跑”？

一、光刻领域：被 “卡脖子” 的工业皇冠明珠

（一）全球垄断格局下的技术壁垒

在半导体制造的复杂工艺中，光刻技术作为其中的关键环节，一直以来都被视为工业皇冠上的明珠。然而，当前全球光刻机市场呈现出高度集中的态势，荷兰的 ASML、日本的尼康和佳能三家企业牢牢占据了超过 90% 的市场份额。尤其在极紫外光刻机（EUV）领域，ASML 更是凭借其领先的技术，实现了 100% 的垄断。

光刻机的制造涉及光学、机械、材料等多达 50 多个学科，是一个集多学科先进技术于一体的复杂系统。每一台光刻机都包含着超过 10 万个零部件，其制造难度不言而喻。以深紫外光刻机（DUV）的物镜系统为例，其表面粗糙度需要被精确控制在 0.5 纳米以下，而对于技术更为先进的 EUV 光刻机，这一要求更是严苛到了 0.05 纳米，这几乎代表了人类工业精度的极限。

中国作为全球最大的半导体消费市场，在过去的很长时间里，却在高端光