光刻产业链突围：10家国产龙头最新进展全解析（2025年终盘点）

一、光刻机核心部件：从精密光学到真空系统的技术攻坚

在半导体制造的皇冠上，光刻机无疑是那颗最耀眼却又最难摘取的明珠，其制造涉及多学科顶尖技术的深度融合，每一个核心部件的突破都牵引着产业的未来走向。下面让我们深入剖析在光刻机精密光学到真空系统领域，实现关键技术攻坚的几家先锋企业。

（一）光学元件突破：茂莱光学、赛微电子双轮驱动

茂莱光学：高精度光学元件量产落地

作为国内精密光学领域的隐形冠军，茂莱光学凭借在光学设计、制造工艺上的深厚积淀，成功打破国外在 ArF 光刻机光学元件上的技术封锁。2025 年，其开发出适用于 ArF 光刻机的 193nm 波长高精度透镜组，这一成果堪称里程碑。在面形精度上达到 λ/10，意味着透镜表面的平整度误差控制在极小范围，确保光线通过时的精准聚焦；镀膜反射率＞99.8%，极大减少了光线在传输过程中的能量损耗，使得曝光成像更加清晰、准确 ，这些关键参数已达到国际一流水