[信息快报] 三利谱 深圳拟进一步技改

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Li-Chase
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三利谱 近日 公示了《深圳市三利谱光电科技股份有限公司改扩建项目》,以下为报告内容。

该项目基本建设情况如下所示:

承建单位:深圳市三利谱光电科技股份有限公司

建设地点:深圳市光明新区公明办事处楼村社区第二工业区同富一路 5 号第1-9 栋

建设类型:改扩建

主要建设规划:(1)为提升偏光片和保护膜产品涂层均匀性, 满足升级需求, 拟对光明厂车间(即 2#和 7#合并车间) 的涂布工艺参数及原料配比进行调整。(2)增加一条涂布中试线, 增加 AOI线 7 条, 增加磨边区域和手工检验区域。(3)增加一条 AOI 线, 增加皮秒激光机、 CO2 切割机等切割设备, 增加画线组, 增加边角料裁切等设备。(4)增加 2 条裁切线。(5)研发样品厂搬至 9# 研发实验楼内。

实际生产能力:/

环评时间:2026年1月

建设时间:/

调试开始时间:/

现场验收时间:/

验收公示时间:/

规划投资:8000万

实际投资:/

产线背景

本次改造的产线是 一号线 和 三号线

2010年,进行项目规划,项目年生产偏光片430 万 m2、 保护膜 10 万 m2 和太阳膜 6 万 m2, 主要生产工艺为预处理、 清洗、 烘干、 涂布、 复合及裁切等。

2017年,进行产线产品升级,改扩建后,偏光片年产量仍为 430 万 m2, 其中偏光片(普通系列)为 320 万 m2, 偏光片(高端系列)为 110 万 m2; 其他产品(保护膜和太阳膜)的生产方案、 生产工艺及生产设备均不发生变化, 改扩建后, 保护膜年产量仍为 10 万 m2, 太阳膜年产量仍为 6 万m2。

2026年,进行改扩建,(1)为提升偏光片和保护膜产品涂层均匀性, 满足升级需求, 拟对光明厂车间(即 2#和 7#合并车间) 的涂布工艺参数及原料配比进行调整。(2)增加一条涂布中试线, 增加 AOI线 7 条, 增加磨边区域和手工检验区域。(3)增加一条 AOI 线, 增加皮秒激光机、 CO2 切割机等切割设备, 增加画线组, 增加边角料裁切等设备。(4)增加 2 条裁切线。(5)研发样品厂搬至 9# 研发实验楼内。