重大突破！大基金500亿强势布局，光刻胶产业链深度透视！
01产业链全景图
02产业驱动因素
①技术突破带来积极预期
近日，清华大学化学系许华平教授团队在极紫外（EUV）光刻材料上取得重要进展，开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶。
目前全球EUV 光刻胶市场由日本 JSR（70%）、东京应化（15%）、信越化学（10%）垄断，中国国产化率长期为 0。
清华大学的突破预计将在2030 年带动中国市场份额从 0% 提升至 15%-20%，直接节省进口成本超 20 亿美元 / 年。
②政策扶持力度大
上海、深圳等地积极推动半导体产业发展，上海砸钱搞全产业链协同，深圳死磕技术突破，且大基金三期材料专项箭在弦上。
在《国家集成电路产业投资基金三期规划》中，已经明确将光刻胶等半导体材料列为重点投资领域，计划投入超500 亿元支持关键材料研发及产业化。
光刻胶作为半导体关键材料，在政策红利下，板块估值得到提升。
③中报业绩预增显著。
根据2025年A股中报预告，多只光刻胶相关股票业绩预增。
如联瑞新材中报预增净利润1.62亿元，同比增长69%；兴业股份中报预增净利润4108万-4921万，同比增长46%-75%。
光刻胶企业业绩增长动力强劲：主要有三方面原因。
一是国际市场开拓，全球半导体设备需求回升，为国内光刻胶企业带来机遇。
二是产品结构优化，高端光刻胶如ArF等占比提升，推动毛利率修复，如上海新阳的NTX550系列产品通过中芯国际14纳米工艺认证，有助于提升业绩。
三是通过技术改造、产线优化等实现降本增效，降低单位成本，提高企业盈利水平。
03上游产业链
光刻胶由树脂（占成本30%-50%）、光引发剂（10%-15%）、溶剂（30%-40%）及添加剂组成，其中树脂和光引发剂是技术壁垒最高的环节。
03-1树脂
光刻胶树脂作为光刻胶的核心成分，其技术水平直接决定光刻胶的性能和制程适配能力。
过去，我国的光刻胶树脂一直面临三个核心挑战。
纯度要求：ArF 树脂金属杂质含量需 < 1ppb，国内提纯技术落后日本 10 年。
分子设计：EUV 树脂需平衡吸收效率与热稳定性，国产配方良率不足 60%。
专利封锁：日本企业在光刻胶树脂领域持有全球63% 的专利，中国仅占 7%。
这就导致我国的光刻胶迟迟难以突破，在高端光刻胶领域，ArF/EUV 树脂完全依赖进口，国产化率不足 1%。南大光电、徐州博康等企业的 ArF 树脂处于客户验证阶段，尚未大规模量产。
成熟制程方面，KrF 树脂国产化率约 5%，晶瑞电材、鼎龙股份等企业已实现 120nm 线宽产品的量产，八亿时空建成百公斤级 PHS 树脂产线。
i/g 线树脂国产化率约 20%，彤程新材、强力新材等企业进入中芯国际供应链。
03-2溶剂
光刻胶溶剂是将树脂、感光剂等固态成分均匀分散为液态，确保光刻胶在晶圆表面形成纳米级均匀薄膜。
不同光刻技术（如KrF、ArF、EUV）对溶剂纯度要求差异显著。例如，EUV 光刻胶溶剂需耐受 13.5nm 波长辐射，金属杂质控制精度达 ppt 级别。
在市场份额和技术方面，仍旧是外国厂商占据主导地位。
国际巨头：日本关东化学、三菱化学占据高端市场，全球前五大厂商（含Dow、JSR）合计市占率超 70%。
中国厂商：怡达股份、红宝丽在PGMEA 领域实现量产，红宝丽光刻胶清洗剂国内市占率突破 15%，位列第一梯队。
半导体溶剂市场整体规模2025 年将达233 亿元，2032 年预计增至367 亿元，年复合增长率6.69%。
亚洲的需求主要来自于韩国（占全球43%）、中国（占 28%）、日本（占 18%）为前三大市场，主要因半导体产能集中。
03-3相关标的
怡达股份：是电子级PM 溶剂全球龙头，市占率超 40%，是光刻胶生产核心溶剂。
圣泉集团：是光刻胶用酚醛树脂供应商，市占率23%。
强力新材：公司PSPI（光敏聚酰亚胺）光刻胶国内领先，应用于 Chiplet 封装。
04中游产业链
04-1 光刻胶
光刻胶是光刻工艺的核心耗材，通过光化学反应将掩膜版图案转移至晶圆表面，直接决定芯片制程精度。
在半导体光刻胶中，ArFi 的用量最大，约占市场的 38%，而 ArF、KrF、G/I 线和 EUV 的市场占比分别为 10%、34%、16%和 2%。
未来伴随芯片制程的缩进，EUV和 ArFi 光刻胶的市场占比有望进一步增长。
在全球光刻胶市场中，TOP5 均为美日企业，CR5 合计达 85%，市场集中度高。在全球半导体光刻胶市场中，基本被日本企业垄断市场。
市场TOP5 中东京应化、陶氏化学、JSR 和住友化学均为日本企业，仅韩国东进占据 11%的份额。从上述市场格局可以看出光刻胶目前国产化率仍较低，国产替代任重道远。
为了打破国外垄断，中国“十四五” 规划投入超 200 亿元支持光刻胶研发，大基金三期重点投资 ArF/EUV 光刻胶，税收优惠降低企业成本 15%。
04-2相关标的
彤程新材：子公司北京科华是国内唯一能量产供应12 寸晶圆厂的 KrF 光刻胶企业，市占率超 40%。
南大光电：国内唯一实现ArF 光刻胶量产的企业，技术覆盖 90nm 至 7nm 逻辑芯片制程。
上海新阳：具备全品类光刻胶研发能力，产品覆盖i 线、KrF、ArF 干法及浸没式光刻胶，KrF 光刻胶已量产并供应中芯国际。
05下游产业链
05-1 半导体
半导体是光刻胶最大的应用领域，二者密不可分。
受美日荷联动对华半导体设备进口制裁影响，中国大陆先进制程扩产受阻。国内大力推动成熟制程产能扩产，提高国产芯片比例。
2023-2027 年中国大陆的成熟制程产能占比将由 31%增长至 39%。
成熟制程相对于先进制程工艺制程节点更低，对光刻胶的要求中等，国产光刻胶厂商有望抓住机遇，推动自身产品进入供应链。
05-2 相关标的
中芯国际：全球领先的集成电路晶圆代工企业之一，是众多光刻胶企业的核心客户。
长江存储：专注于3D NAND 闪存芯片的设计、研发、生产和销售，对光刻胶的性能和质量要求极高。
06发展趋势
光刻胶产业链呈现“上游材料卡脖子、中游生产日美垄断、下游应用国产替代需求迫切” 的特点。国内厂商需在树脂、光酸 PAG 等核心材料，以及涂胶显影机等设备领域持续突破，同时依托政策支持与市场需求，加速高端产品验证与量产。
#光刻胶、#半导体、#国家大基金
以上分析不构成具体投资建议。股市有风险，投资需谨慎。