聚和材料：自主可控先进制造的核心机会在于 左手光刻机，右手光置！

光置即掩膜版，是光刻产业核心配置，高端掩膜版是达成先进制成光刻图形化的必要条件，目前国内完成这一使命重担主要交付于晶圆代工厂的inhouse厂完成。

而掩膜版的核心在于其主要原材料空白掩模版(blank mask)，其价值量占比高达【50-60% BOM】、毛利率达到【60%6-70%】工艺要求及精细化程度极高，主要掌握在日韩零量几家企业手中。即使是国内晶圆inhouse厂，也只能通过中介代理溢价进行购买供给紧张时交付期限较为夸张，溢价率更是达到100%!目前国内半导体级空白掩模版国产化率几乎为0，先进制成级的空自掩膜版生产一片空自，完全依赖进口。

空白掩模版系国内最稀缺半导体材料(可能没有之一)，其重要程度可比于【光刻机物镜镜头】，相关标的横空出世，未来易享受充分的先发优势，并可能获得82定律的绝 对头部份额!

卖方测算的远期空间：聚和材料的主业明年5亿利润 25倍 125亿市值;blank mask 投产后15亿收入 50%净利润 给30倍 210亿市值;合计有望在未来达到335亿市值，仅供参考!