上海加快打造国家先进制造业集群，卓光芮子公司罡景光学调研干货
周末，官方公布了7月31日陈吉宁出席、龚正报告，宣布上海将着力打通（集成电路等）堵点和断点，加快打造（集成电路等）国家先进制造业集群。上海将着力增加高质量科技供给，加大力度支持基础研究和关键核心技术攻关，力争到 2027 年将基础研究经费支出占比从去年的 11% 左右提高到 15% 左右，同时着力打通集成电路等三大先导产业堵点断点。
关于堵点和短点，立刻想到上周线下调研的罡景光学（近期联合化学(SZ:301209)投资1.2亿的卓光芮旗下子公司），出于保密性只能分享少量信息：
1、核心技术团队人员来自上海微电子：创始人高安博士荷兰读博后进入阿斯麦，参与DUV和EUV光刻机相关工作（EUV中负责掩膜板无污染检测等，DUV中负责硅片对准传感器等）；2018年底回国参与02专项研发，曾任28纳米禁运产品技术总工、前道系统集成部经理（团队120人），后创办罡景。团队现有200多人，核心技术团队在光刻机整机各环节领域均有超过5-15年的经验，多人是光通信领域资深专家；公司计划下半年扩招至300人。
（02专项：2002 年，光刻机被列入国家 863 重大科技攻关计划，由科技部和上海市共同推动成立上海微电子装备有限公司来承担，2008 年国家又启动了“02”科技重大专项予以衔接持续攻关。在国家重大科技专项的支持下，上海微电子的 IC 前道光刻机有望在未来几年实现 45nm、28nm 制程，逐步缩小与国际先进水平的差距。）
2、团队经验覆盖光刻整机制造，即前道和后道均有技术优势：从应用领域来看，光刻机主要用于集成电路、平板显示以及传感器等领域。 其中集成电路根据产品类型可以分为超大规模集成电路、功率 IC、LED 驱动芯片等等产品。根据环节可以分为前道的晶圆加工和后道的封装两个环节。
根据公司核心技术人员讲述，前道光刻机（先进制程）镜头领域，长春国科、成都光电所等有实际产品，其他部分企业暂不具备能力。
3、超大市场1微米投影式曝光镜头（曝光视场150×150毫米，国内首家，国际可对标尼康最新设备，预计今年年底交付）。
（备注：尼康日本当地时间本月 16 日宣布推出其首款面向半导体后道（后端）工艺的光刻系统 DSP-100。这一光刻机是去年 10 月宣布的开发项目的成果，本月起接受订单，预计 2026 财年内上市。DSP-100 专为大面积先进封装光刻而生，结合了半导体光刻机的高分辨率技术与 FPD（平板显示）曝光设备的多镜组技术，采用相当于 i 线的光源，通过 SLM（空间光调制器）以无掩膜的形式将电路图案直接投射至基板。）