亨通光电布局硅光芯片：从国光12寸到星钥8寸国产化硅光平台

2025年11月，亨通光电参与发起的国光12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光平台在中国光谷投用；2026年3月，亨通光电参与发起的星钥光子8英寸90nm硅光平台在苏州开工。这对于国内的光芯片产业和亨通光电意味着什么？

这两个平台不是“替代关系”，而是“分工关系”。国光平台是技术服务平台，而星钥是直接量产，亨通在两边都有卡位，这恰恰说明它在硅光产业链的布局深度。

一、12寸 vs 8寸：技术代际对比

核心结论：从技术参数看，12寸平台在晶圆尺寸、工艺节点、投产进度三个维度上全面领先。40nm工艺比90nm更先进，12寸晶圆比8寸晶圆切割芯片数量更多、成本更低。

二、亨通在两个平台中的角色

这是最值得关注的部分——亨通两边都有卡位，而且角色都很核心：

2.1 国光12寸平台（NOEIC）：亨通是核心发起方之一

国家信息光电子创新中心（NOEIC）由光迅科技（持股37.5%）、烽火通信（持股18.7